판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9198786

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200은 반도체의 산업 제조를 위해 설계된 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 이 멀티 챔버 원자로는 구리 이중 다마신 구조, 고 종횡비 접촉 및 MIM 커패시터 구조, 고급 금속 상호 연결과 같은 응용 분야에 대해 최대 3 개의 재료를 동시에 증착하도록 지원합니다. 특허를받은 Tamarac Amox Etch Single-wafer 모듈 및 이중 하향 로드 프로세스 기능을 갖춘 AMAT Centura 5200은 고품질, 고성능 반도체 장치의 안정적인 생산을 제공합니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200의 핵심에는 프로세스 성능 최적화와 프로세스 제어가 뛰어난 5 가지 시스템 구성 요소가 있습니다. Centura 5200 에는 다양한 운영 조건에서 신속하고 정확한 프로세스 튜닝이 가능하도록 고급 모델 기반 제어 기술을 활용하는 OCM (Onsite Complex Module) 이 장착되어 있습니다. 이 모듈은 웨이퍼 품질, 증착률, 프로세스 균일성에 대한 실시간 피드백을 제공합니다. 또한 OWET (On-Wafer Electrical Test) 모듈은 웨이퍼 전기 특성에 대한 빠른 테스트를 지원하지만 SWEM (Single-Wafer Etcher Module) 은 빠르고 정확한 에칭 프로세스를 보장합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200에는 처리량 향상을 위한 이중 하향 부하 기능 (dual-downward load capability) 과 대형 기판 처리 개선을 위한 회전식 핀저 (rotatable twezer) 도 장착되어 있습니다. AMAT Centura 5200에는 프로세스 레시피에 쉽게 액세스하거나, 증착 프로파일을 검사하거나, 프로세스 매개 변수를 조정할 수 있는, 사용자에게 친숙한 그래픽 인터페이스도 있습니다. OCM을 통해 3 개의 통합 챔버를 통해 다중 계층 증착이 고품질 구리 듀얼 다마신 구조를 생성하고 75nm 이하의 종횡비 기능이있는 MIM 커패시터 및 접촉 구조를 가능하게합니다. 통합 된 열 격리 기능은 빔 오염을 최소화하고 웨이퍼 오정을 최소화합니다. 또한 메인프레임 (Mainframe) 은 여러 재료나 프로세스를 동시에 테스트할 수 있도록 최대 6 개의 챔버 (chamber) 를 통합할 수 있는 확장성을 제공하도록 설계되었습니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200은 주요 IC 제조업체의 툴 키트와의 통합을 통해 제조업체가 수익률 개선을 개발하고 장치를 더 빨리 판매할 수 있도록 지원합니다. 유지 보수가 용이하도록 설계되었으며 MTBF (Mean Time Between Failures) 를 최대 백만 시간까지 지원합니다. 이를 통해 제조업체는 디바이스 성능 향상과 다운타임 감소의 혜택을 누릴 수 있습니다. 전반적으로, Centura 5200 은 고성능, 고성능, 처리량이 많은 산업용 어플리케이션을 위해 설계되었으며, 새로운 디바이스를 더욱 빠르게 시장에 출시할 수 있는 고급 증착 기능을 제공합니다. 강력한 재료 증착, 공정 제어 및 확장성 기능이 결합된 AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200은 고급 반도체 장치 제작에 이상적인 선택입니다.