판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9196778
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ID: 9196778
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1996
PECVD System, 8"
Process: eMax
JMF
SMIF Interface: No
Chamber A / B / C: eMax
Chamber F: Orientor
Load lock A / B: Narrow
(6) Wafer sensors
EPD Controller
System placement: System alone
Chamber A / B / C:
RF Match: 0010-30686
RF Generator: OEM-28B
ALCATEL ATH1600M Turbo pump
Throttle valve
MKS TYPE127 1TORR Mono meter
Mainframe information:
System placement: Stand alone
Robot type: HP+
L/L Wafer mapping
Slit Valve / Plate type: Standard
Robot blade: Ceramic
W/F Slippage sensor
N2 Purge
Heat exchanger (Chiller): No
Dry pumps: No
System monitor: Stand alone
Gas panel configuration: 7 Channels
Chamber A:
CL2 / 100 Sccm / SEC-4400M
CF4 / 100 Sccm / TYLAN 2900
N2 / 100 Sccm / SEC-4400
AR / 300 Sccm / SEC-4400M
O2 / 5 Slm / SEC-4400M
CHF3 / 20 Sccm / SEC-4400M
CF4 / 100 Sccm / SEC-4400M
Chamber B:
C4F8 / 50 Sccm / SEC-7440MC
CO / 500 Sccm / SEC-7440MC
N2 / 100 Sccm / SEC-4400
AR / 200 Sccm / SEC-4400M
O2 / 50 Sccm / SEC-4400M
CHF3 / 100 Sccm / SEC-4400M
CF4 / 50 Sccm / SEC-4400M
Chamber C:
CL2 / 100 Sccm / SEC-7440MC
CHF3 / 50 Sccm / TYLAN 2900
N2 / 100 Sccm / SEC-4400
AR / 2 Slm / SEC-4400M
O2 / 5 Slm / SEC-4400M
CHF3 / 20 Sccm / SEC-4400M
CF4 / 50 Sccm / SEC-4400M
Electrical:
Line frequency: 50 / 60 Hz
Power: 208 VAC, 4 Wires, 3 Phase delta
Missing parts:
(2) Slit valves
(3) Flow sensors & coolant lines
EPD Monitor
Liner for B-ch
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200은 집적 회로 및 고급 반도체 장치의 제작을 위해 탁월한 성능을 제공하는 대용량 처리 원자로입니다. AMAT Centura 5200은 고급 자동화 및 유연성을 고려하여 설계되었으며, 복잡한 웨이퍼 (Wafer) 처리 작업의 성능을 정확하고 빠르게 제공합니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200에는 자동 웨이퍼 처리, 가변 위치 로드/언로드, 자동 저항 및 에치 프로세스, 자동 레이저 패턴, 최대 7 개의 웨이퍼 처리 기능 등 다양한 자동 기능이 장착되어 있습니다. 또한 Centura 5200은 자동 에지 스캐닝, 결함 감지 등의 고급 검사 기능을 제공합니다. 이 고급 기능 세트를 통해 AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200은 기존 처리 시스템보다 높은 수준의 정확성과 처리량을 달성할 수 있습니다. AMAT 센츄라 5200 (Centura 5200) 은 다양한 처리 조건에서 신뢰할 수 있는 작동이 가능하므로 다양한 주변 온도 및 압력 (pressure) 에서 일관되고 예측 가능한 성능을 보장합니다. 또한, 운영 업체가 안전하고 안전한 처리 조건을 보장할 수 있도록 지원하는 내장 환경 모니터링 (Environmental Monitoring) 시스템을 갖추고 있습니다. 또한 APPLIED MATERIALS Centura 5200의 고급 동적 제어 시스템 (Advanced Dynamic Control Systems) 은 원자로의 내부 압력을 지속적으로 모니터링하고 조정하여 전체 에치 프로세스 전반에 걸쳐 최적의 조건을 유지합니다. 센츄라 5200 (Centura 5200) 은 또한 가스 흐름과 압력 수준을 지속적으로 모니터링하고 조정하는 정밀한 프로세스 제어 시스템을 사용하여 안정적이고 반복 가능한 프로세스 성능을 제공합니다. 이 시스템을 통해 반응물 농도 (reactant concentrations) 를 정확하게 제어할 수 있으며, 정확한 온도 및 흐름 시간 설정을 통해 사용자는 매번 반복 가능한 프로세스로 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 또한 AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200에는 통합 프로세스 제어 컴퓨터가 있으며, 이 컴퓨터는 웨이퍼 온도 및 압력, 기타 중요한 웨이퍼 투 웨이퍼 프로세스 매개변수에 대한 실시간 데이터를 제공합니다. AMAT Centura 5200 의 고급 자동화 및 프로세스 제어 (automation and process control) 기능은 견고한 설계 및 구성 기능과 결합하여 대용량 에치 (etch) 어플리케이션에 적합합니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200은 최대 7 개의 웨이퍼를 동시에 처리 할 수 있으며, 모든 사이클에서 안정적이고 반복 가능한 결과를 제공할 수 있습니다. 또한 고급 자동화 (automation) 및 프로세스 제어 (process control) 기능을 통해 운영자는 에치 프로세스의 매개변수를 효율적이고 정확하게 제어할 수 있으므로 전체적으로 일관되고 예측 가능한 성능을 보장할 수 있습니다.
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