판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9188519
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ID: 9188519
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2003
HDP CVD System, 8"
Ultima TE process chamber
Wafer shape: SNNF
EMO Type: Turn to release
Chamber configuration:
Chamber A: HDP Ultima TE process chamber
Chamber B: HDP Ultima TE process chamber
Chamber C: HDP Ultima TE process chamber
Chamber E: Multi cooldown chamber
Chamber F: Orient chamber
Loadlock configuration:
Loadlock type: Wide body
Auto rotation
Cassette type: 200mm
Mapping function: FWM
Vent type: Variable speed
Fast vent option
Mainframe configuration:
Buffer robot type: HP+
Buffer robot blade: Ceramic blade
Remote monitor: Table mount
Clean system: RPS ( Remote plasma) clean
Sub-system configuration:
Chiller
RF Generator type: ETO
Gas panel configuration: Normal gas panel
Turbo pump: ADIXE ATH2300M
Gate valve: NC
Electrical configuration:
Line voltage: 208V
Full load current: 320 A
Frequency: 50/60Hz
CE Safety mark: English
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 원자로는 고급 반도체 집적 회로 (IC) 를 제조 할 수있는 단일 웨이퍼 열 처리 장비입니다. 반도체 제조업체가 장치 제작과 관련된 에칭 (etching), 클리닝 (cleaning) 및 기타 작업에 사용하는 도구입니다. 이 시스템에는 6 단계 공정 챔버 (chamber) 구성이 있으며, 광범위한 치료를 위해 다양한 부식 성, 공격성 및 기타 화학 종이 도입 될 수 있습니다. AMAT Centura 5200 원자로는 습식 및 건식 에칭, 증착, 청소, 수동화 및 금속 스퍼터링을 포함한 다양한 프로세스를 지원합니다. 특허받은 존 (Zone) 수준의 제어 기술과 독보적인 듀얼 가스 웨이퍼 회전 장치 (Dual-Gas Wafer Rotation Unit) 를 통해 공구의 다양한 레벨 내에서 프로세스 조건을 정확하게 제어할 수 있습니다. 이러한 기술의 조합을 통해 레이저는 열 공정의 정확한 제어 (control of thermal process) 를 통해 더 높은 수준의 통합 및 성능을 구성 할 수 있습니다. 이 툴은 대용량 운영 환경에서 사용하도록 설계되었으며, 시간당 최대 500 개의 웨이퍼를 처리할 수 있습니다. 시스템 작업에 대한 액세스는 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 를 통해 제공되며, 이를 통해 최적화된 매개변수 제어 및 처리 데이터를 신속하게 액세스할 수 있습니다. 이 도구는 원자로의 작동을 촉진하기 위해 다양한 기능을 제공하는 자동화 유틸리티 (automated utilities) 를 갖추고 있습니다. 여기에는 인력 보안, 웨이퍼 추적 (wafer tracking), 웨이퍼 로트 (wafer lot) 품질 제어 및 프로세스 기록을 모니터링하여 반복 가능한 성능을 보장하는 자동 웨이퍼 설정이 포함됩니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200 원자로는 칩 제조와 관련된 환경 및 안전 문제를 최소화하기 위해 장착되었습니다. 첨단 IC 생산과 관련된 화학적 노출 및 기타 위험 조건을 최소화하도록 설계되었습니다. 이 자산은 SEMI S2 및 S8을 포함한 다양한 규정 및 표준을 준수합니다. 결론적으로, Centura 5200 원자로는 차세대 반도체 제조의 요구 사항을 충족하도록 설계된 고도의 열 처리 모델입니다. EMC VTL (Virtual Tape Suite) 은 다양한 자동화된 유틸리티를 제공하여 운영 용이성을 높이고 잠재적인 안전 및 환경 위험을 줄여줍니다. 고급 IC 구성 (Advanced IC Fabrication) 을 위한 최고 수준의 성능과 반복 가능성을 충족할 수 있는 툴입니다.
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