판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9186584

AMAT (응용 재료) AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200은 고성능 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 이 장비 는 원하는 "필름 '재료 를 포함 한 증기 를 표면 에 증착 시킴 으로써" 반도체' 와 다른 표면 에 박막 을 형성 하는 데 사용 된다. 이 시스템의 목적은 다양한 전자 및 광전자 응용 프로그램 (electronic and optoelectronic application) 에 사용될 수있는 초미세 균일 박막 (thin film) 을 입금하는 것입니다. AMAT Centura 5200 원자로는 쿼츠 튜브 (quartz tube) 설계로 구성되어 있으며 단일 및 다중 웨이퍼 모듈을 모두 처리 할 수 있습니다. 사용자 친화적 인 GUI 기반 장치를 통해 사용자는 온도, 압력, 유량 (flow rate) 과 같은 프로세스 매개변수를 쉽게 설정할 수 있습니다. 이 기계는 또한 다른 온도 프로파일 (temperature profile) 과 공정 정권 (process regimes) 을 지원하는 데 사용될 수있는 두 개의 독립적 인 난방 구역을 갖추고 있습니다. 온도는 최적의 증착 결과를 보장하기 위해 신중하게 모니터링하고 유지해야합니다. 이 장치에는 정밀한 공정 가스 흐름 관리를위한 고급 가스 전달 도구 (Advanced Gas Delivery Tool) 가 장착되어 있습니다. 이는 정확하고 반복 가능한 프로세스 결과를 보장합니다. 이 자산은 실리콘, 게르마늄, 질화 갈륨, 사파이어, 탄화 실리콘, 다이아몬드 등 다양한 재료를 처리 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200은 재생성이 뛰어난 고품질 필름의 증착을 지원하도록 설계되었습니다. 이 모델에는 자가 진단 (Self Diagnostic) 및 모니터링 (Monitoring) 기능이 장착되어 있어 안정적이고 안전한 작동을 보장합니다. 여기에는 프로세스 흐름의 자동 종료, 사전 설정된 조건이 충족되지 않는 경우 온도 조절 (temperature control) 이 포함됩니다. 기기의 온도, 압력, 선반 온도는 모두 컴퓨터 시스템 (computer system) 으로 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 최적의 프로세스 운영을 보장할 수 있는 중요한 피드백을 얻을 수 있습니다. 이 장치는 또한 ASMP (Advanced Sub-Micron Photolithography) 기능을 제공 할 수 있습니다. 초정밀 마스크 정렬 및 리소그래피 (lithography) 를 수행하여 최소한의 왜곡으로 뛰어난 해상도로 복잡한 특징과 구조를 형성 할 수 있습니다. 또한 스핀 코팅 (spin coating), 에칭 (etching), 이온 이식 (ion implantation) 과 같은 여러 기술을 지원하도록 기계를 구성할 수 있습니다. 센츄라 5200 (Centura 5200) 은 신뢰할 수 있는 다용도 원자로로서, 다양한 애플리케이션에 우수한 증착 기능을 제공합니다. 신뢰할 수 있는 장기 사용을 위해 견고하게 설계되었으며 프로세스 매개변수 (process parameter) 의 고급 모니터링 및 제어를 통해 일관성 있고 반복 가능한 결과를 보장합니다.