판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9061043
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ID: 9061043
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1996
Etcher, 8"
Cassette nest plastic, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi notch no flat)
System information:
Platform type: Centura
(3) Process chambers
SECS / GEM: Yes
Chamber location / Type / Current process:
Position A / MxP / Poly etch
Position B / MxP / Poly etch
Position C / MxP / Poly etch
Position F / Orienter (Laser assy not available)
Etch chamber:
Chamber type: MxP
Wafer clamp: Polyimide ESC
BS He cooling: Yes
He dump line: Yes
Turbo pump: SEIKO STP-301CVB
Endpoint type: Stand alone
Monochrometer: Per chamber
Generator model: ENI OEM-12B3
Max power: 1250w
Lid temp control: PID Control
Gate valve: Heated gate valve
Matcher: SMA-1000
Process manometer: MKS 1Torr
Gas panel:
Manual valve: Yes
Transducer: Yes
Transducer displays: Yes
Regulator: Yes
Filter: Yes
Gas panel facilities hook up: Single line drop bottom feed (Left side)
Exhaust: Top
Gas panel door interlock: Yes
Gas panel exhaust interlock: Yes
Gas panel pallet:
Corrosive gas line: (2) Lines per chamber
Inert gas line: (6) Lines per chamber
MFC type: STEC SEC-7440MC
Gas line (gas name, MFC size)
ChA
Line 1: CL2 / 80 / SEC-7440
Line 2: HBR / 100 / SEC-7440
Line 3: NF3 / 100 / SEC-7440
Line 4: CHF3 / 70 / SEC-7440
Line 5: O2 / 40 / SEC-7440
Line 6: CF4 / 100 / SEC-7440
Line 7: Ar / 100 / SEC-7440
Line 8: N2 / 100 / SEC-7440
ChB
Line 1: CL2 / 83 / SEC-7440
Line 2: HBR / 100 / SEC-7440
Line 3: NF3 / 100 / SEC-7440
Line 4: CHF3 / 70 / SEC-7440
Line 5: O2 / 40 / SEC-7440
Line 6: CF4 / 100 / SEC-7440
Line 7: Ar / 100 / SEC-7440
Line 8: N2 / 100 / SEC-7440
ChC:
Line 1: CL2 / 80 / SEC-7440
Line 2: HBR / 100 / SEC-7440
Line 3: NF3 / 100 / SEC-7440
Line 4: CHF3 / 70 / SEC-7440
Line 5: O2 / 40 / SEC-7440
Line 6: CF4 / 100 / SEC-7440
Line 7: Ar / 100 / SEC-7440
Line 8: N2 / 100 / SEC-7440
Mainframe:
Facilities type: Regulated
Loadlock type: Wide body
Loadlock auto-rotation: Yes
Wafer mapping type: Fast
Wafer mapping sensor: Yes
Cassette present sensor: Yes
Transfer chamber manual lid hoist: Yes
Robot type: HP
Emo button: Front side
Water leak detector: Yes
Signal tower (front): Green, yellow, red
(2) System monitor displays / controller: Front, remote
Remotes:
System controller & AC rack
EMO button: Yes
Smoke detector: Yes
Line frequency and voltage: 50/60Hz, 208VAC, 3ph
Remote UPS interface: Yes
Generator rack
EMO button: Yes
Smoke detector: Yes
Water leak detector: Yes
Heat exchanger type:
For wall: RISSHI CS-400SW-2 (0 - 80°C)
For cathode: RISSHI CS-400SW-2 (0 - 80°C)
Pumps type:
LL Chamber: EBARA A30W
Transfer chamber: EBARA A30W
Ch A: EBARA A30W
Ch B: EBARA A30W
Ch C: EBARA A30W
Gas scrubber: EBARA GTE-3
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200은 최첨단 반도체 생산을 위해 특별히 설계된 고성능 원자로입니다. 고급 증설 기술과 통합 자동화 기능을 결합하여 프로세스 유연성 및 제어를 최적화합니다 (영문). AMAT Centura 5200은 독특한 하이브리드 증착 챔버 (hybrid-deposition chamber) 설계로 공격적인 프로세스 절차를 통해 저온 반응과 고온 반응을 모두 가능하게합니다. 따라서 혼성 증착 (hybrid-deposition) 방식을 통해 더 빨리 처리할 수 있습니다. 즉, 챔버 교환과 관련된 다운타임을 줄여 처리량을 증가시킵니다. 이 원자로를 사용하면 더 높은 처리량으로 더 균일하고 일관된 필름을 생성 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200 은 또한 사용 가능한 수많은 프로세스와 사용자 지정 가능한 소프트웨어 (Customizable Software) 를 통해 제품을 특정 요구 사항에 맞게 사용자 정의할 수 있습니다. 사용자는 이 소프트웨어를 사용하여 증착 레시피 (deposition recipe) 와 프로세스 흐름 (process flow) 을 사용자 정의하고 원자로 기능을 필요에 맞게 최적으로 조정할 수 있습니다. 또한 프로세스 최적화 및 신뢰성 향상을 위해 프로세스를 신속하게 수정, 반복할 수 있습니다. 센츄라 5200 (Centura 5200) 원자로에는 빠르고 간편한 서비스 및 문제 해결이 가능한 정교한 원격 진단 시스템이 있습니다. 통합 자동화 제어 및 진단 시스템은 사용자에게 R&D (R&D) 에서 운영 (Production) 에 이르기까지 다양한 작업에 필요한 유연성을 제공합니다. 또한 유연한 제어 기능을 통해 처리율을 극대화하고 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 또한 AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 원자로는 안전을 염두에두고 설계되었습니다. 방호호 (Protective Guard) 와 챔버 인터 록 (Chamber Interlock) 을 포함한 다양한 안전 및 환경 보호 장치 (Environmental Safeguard) 를 갖추고 있어 원자로 (Reactor) 가 환경 규정을 준수하도록 작동합니다. AMAT 센츄라 5200 (Centura 5200) 은 다양한 기능을 갖춘 고급 원자로로, 시장에서 가장 뛰어난 고성능 원자로 중 하나입니다. 첨단 증착실 설계, 통합 자동화 기능, 유연한 제어 기능을 통해 R&D (R&D) 에서 운영 (Production) 에 이르기까지 다양한 작업에 이상적인 솔루션이 될 수 있습니다.
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