판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #293685998
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ID: 293685998
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 1994
System, 6"
(3) Chambers
Oxide chamber for EMXP+, 6"
HP Robot
Gas panel: VME1/VME2
MFC/Gas filter missing
Gas box
Load lock
Simple cathode and ESC
Wall and cathode liner
SEIKO SEIKI 301
HV Module
RF Match box
ENI OEM 12B-03
Gas panel valve
VME1 Gas control
EOP Controller (3-channels)
Removed parts:
Generator
Pump
1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200은 반도체 제조 산업에서 정확한 공정 결과를 제공하기 위해 특별히 설계된 고성능 반응 챔버입니다. 초고품질 에치 (etch) 및 증착 프로세스를 지원하는 새로운 자동 탑로드 접근 방식이 특징입니다. 이 장비는 비용, 속도, 정확성 측면에서 다양한 장점을 제공하므로, 광범위한 주요 제조 공정 (Manufacturing Process) 에 걸쳐 고객에게 이상적입니다. AMAT Centura 5200의 중심에는 온보드 가스 매니저가있는 독특한 이중 펌프 진공 시스템이 있습니다. 이 고급 장치 (Advanced Unit) 는 거의 완벽한 압력 제어를 제공하며 기판 손상 또는 재료 절제를 줄이면서 매우 일관된 에치 (etch) 및 증착 성능을 제공합니다. 또한, 진공 수준을 99.7% 이상으로 조절 할 수 있으며, 비용이 많이 드는 진공 베이크 아웃이 필요하지 않으며 장비 턴오버가 크게 개선되었습니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200의 반응 챔버에는 처리 중 와퍼를 부드럽게 유지하는 맞춤형 기판 소켓이 장착되어 있습니다. 이를 통해 웨이퍼는 완벽하게 레벨을 유지하고 미리 정의된 속도로 회전하여 에칭 (etching) 및 증착 효과 (deposition effect) 를 일관되게 유지할 수 있습니다. 뿐 만 아니라, 이 기계 는 먼지, 파편, 오염 물질 로부터 약실 을 보호 하는 데 도움 이 되는 견고 한 내부 "필터 '로 만들어져 있다. 센츄라 5200 (Centura 5200) 의 프로세스 매개변수를 철저히 제어하면 하위 프로파일 (경계선) 에치 및 증착 프로세스를 최대한으로 제어하고 높은 온도에 노출 될 수 있습니다. 이를 통해 매우 매혹적인 결과와 최고 품질을 얻을 수 있습니다. 이 툴에는 하드웨어 기능 외에도 정교한 제어 및 자동화 툴 (Automation Tool) 이 장착되어 있어 반복 가능하고 비용 효율적인 결과를 얻을 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200은 초고품질 에치 및 증착 프로세스를 갖추고 있어 매번 완벽한 실행을 보장합니다. 고급 진공 자산 (vacuum asset) 과 맞춤형 기판 소켓 (custom substrate socket) 은 균일 한 장치 구조를 만드는 반면, 자동화된 최상위 부하 접근 방식, 정교한 제어 및 자동화 기능은 모든 프로세스 매개변수가 가장 높은 품질의 결과를 제공하기 위해 정확하게 조정됩니다. 전체적으로 AMAT Centura 5200은 정밀도 (precision) 와 성능 (performance) 의 완벽한 조합을 제공하여 고급 반도체 생산 프로세스에 이상적인 선택입니다.
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