판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP+ #293820614

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP + 는 반도체 제조 시스템의 Centura 플랫폼의 일부인 반도체 원자로입니다. 이 장비는 광범위한 온도, 공정 가스 (process gase) 에 대한 정확한 증착 과정을 제어하여 안정적이고 반복 가능한 필름 증착을 가능하게합니다. 원자로에는 뛰어난 온도 균일성 및 공정 제어를 제공하는 MFC (Modulator Focus Chamber) 및 Purge Chamber가 장착되어 있습니다. MFC는 균일 한 가스 흐름 및 온도로 개선 된 반응 환경을 제공합니다. 이것은 가장 복잡한 증착 기술조차도 뛰어난 균일성과 반복성을 제공합니다. 퍼지 챔버 (purge chamber) 는 침착 과정 후 남은 잔류 부산물을 제거하는 데 도움이 되며, 낮은 오염 수준을 보장합니다. 또한 증착원, 가스 배달 시스템, 기판 히터 등 반도체 산업 표준 프로세스 모듈이 장착되어 있습니다. 모듈 시스템으로서 AMAT Centura 5200 MxP + 는 프로세스 챔버를 사용자 정의하여 Magnetron Sputter Source, Cold-cathode Source 및 Vari-Pulse Sputter Source 등의 옵션으로 고객의 요구를 충족시킬 수 있습니다. 이 장치는 또한 PECVD, PVD, ALD 및 CVD와 같은 전통적인 Metallization 및 Wet Clean Processes와 호환됩니다. 시스템의 모듈식 (modular) 설계를 통해 사용자는 특정 프로세스 요구를 충족하기 위해 프로세스 챔버 (process chamber) 구성을 조정할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP + 는 신뢰성이 높고 반복 가능한 툴로, 다양한 구성으로 제공되므로 반도체 제조에 적합합니다. 저예산 (low budget) 과 빠른 주기 (fast cycle) 시간을 통해 수익성을 극대화하고 일관된 프로세스 성능을 보장할 수 있습니다. 모델에서 사용하는 고급 품질 관리 (Advanced Quality Control) 메커니즘과 모니터링 (Monitoring) 소프트웨어는 증착 프로세스의 모든 단계를 적절하게 모니터링 및 제어합니다. 또한 모듈식 설계를 통해 필요에 따라 성능이 향상되고 사용자 정의할 수 있습니다 (영문). 이를 통해 Centura 5200 MxP + 는 다양한 반도체 제작 요구에 적합한 선택이 됩니다.