판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9206456
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판매
ID: 9206456
웨이퍼 크기: 8"
CVD System, 8"
Chamber A:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber B:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber C:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber E: MS Cool
Mainframe:
System placement: Through the wall
Robot type: HEWLETT-PACKARD Robot
Robot blade: Nickel coated AL
OTF: Yes
W/F Position sensor: Yes
Loadlock:
Loadlock cassette: Narrow
Wafer slide sensor: Yes
Wafer mapping: Basic
N2 Purge type: TYLAN 2900
System monitor:
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Stand alone
Generator rack:
(3) Racks
Generator 1: AE RFG 2000-2V
Generator 2: AE RFG 2000-2V
Generator 3: AE RFG 2000-2V
Heat exchanger:
APPLIED MATERIALS, AMATO
Chiller: No
Dry pumps: No
Signal tower: No
Umbilicals:
Monitor: 55 ft
Signal cable length (S/C ~ MF): 50 ft
HX Cable length: 55 ft
Gas delivery option:
MFC Type: STEC 4400 MC
Valves: Veriflo 10 ra max
Filters: MILLIPORE
Transducers: MKS W/O Display
Regulators: Veriflo
Single line drop (SLD): No
System cabinet exhaust: Top
System controller:
Slot Rack BD
2 System Reset
3 Lk Det 1 &2 or Conv/TC
4 Lk Det 3&4 or Conv/TC
5 Lk Det 5&6 or Conv/TC
6 Lk Det 7&8 or Conv/TC
9 EWOB Centerfinder
12 Floppy disk drive
13 Hard disk drive
14 Chamber A interface
15 Chamber B interface
16 Chamber C interface
17 Chamber D interface
18 Chamber E interface
19 Mainframe interface
20 Loadlock interface
22 Chamber A Dl/O 2
23 Chamber B Dl/O 1
24 Chamber B Dl/O 2
25 Chamber C Dl/O 1
26 Chamber C Dl/O 2
29 Chamber E Dl/O
30 Synergy SBC(V440)
32 Video
33 I/O Expansion
34 SEI
35 Chamber A Al/O
36 Chamber B Al/O
37 Chamber C Al/O
39 Mainframe Al/O 1
40 Chamber E/MF Al/O 2
41 Mainframe Dl/O 1
42 Mainframe Dl/O 2
43 Mainframe Dl/O 3
44 Mainframe Dl/O 4
45 Mainframe Dl/O 5
46 Mainframe Dl/O 6
47 Stepper 1
48 Stepper 2
49 Stepper 3
50 OMS (VMEX)
RF Generator:
Chamber Maker Model
A AE RFG 2000-2V 3155053-003B
B AE RFG 2000-2V 3155053-003B
C AE RFG 2000-2V 3155053-003B
RF Match box:
Match multifunctional ADPTR
With interlock 7-J14 OHM
Chamber Maker Model
A AE 155077-003B
B AE 315S077-C03A
C AE 315S077-C03A
Power: 200/208 V, 240 A.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ는 고성능 멀티 프로세싱 플라즈마 PECVD (Enhanced Chemical Vapor Deposition) 원자로입니다. 반도체, 디스플레이 및 태양 광 산업 내에서 고급 재료를 생산하는 데 사용되는 장치입니다. 이 도구는 고객이 단일 시스템 (예: 높은 생산성 산화물 계층, PERL 응용 프로그램을위한 PECVD a-Si 재료의 증착, 대구경 기판의 초박형 레이어 증착) 으로 광범위한 재료 처리 문제를 해결할 수 있도록 설계되었습니다. 3 차원에서 우수한 기능 제어를 제공하여 중요한 구성 요소 토폴로지를 정확하게 제어합니다. AMAT Centura 5200 DxZ에는 업계에서 가장 고급 챔버 엔지니어링이 장착되어 있습니다. 그것은 최대 8 인치까지 다양한 크기의 기판을 처리 할 수있는 웨이퍼 기판 형상을 특징으로하며, 고도로 엔지니어링 된 사전 프로세스 챔버 (pre-process chamber) 와 주 (처리) 챔버로 구성됩니다. 프로세스 작업 중 균일성 (unifority) 과 일관성 (consistency) 을 보장하기 위해 챔버는 온도 조절 및 밀접하게 모니터링되어 안정적인 열 조건을 보장합니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ에는 자동화 된 프로세스 제어, 온도의 실시간 모니터링, 프로그래밍 가능한 레시피 (recipe) 제작이 가능한 다양한 직관적인 소프트웨어 패키지가 장착되어 있습니다. 즉, 운영 과정에서 공구 효율성을 최적화하고 프로세스 일관성을 유지하며 TCO (소유 비용) 를 절감하는 데 도움이 됩니다. 처리량 향상을 위해 Centura 5200 DxZ 는 2 개의 기판을 동시에 처리할 수 있는 이중 노즐 (dual-nozzle) 설계, 그리고 더 높은 증착률을 달성할 수 있는 이중 상 변조 프로세스 (dual-phase modulation process) 등 여러 가지 고급 기능을 제공합니다. 챔버 설계 (Chamber Design) 에는 고급 윈도우리스 증발 기술 (Windowless Evaporation Technology) 이 포함되어 있어 유지 관리 주기 (Maintenance Cycle) 를 줄이고 기존 접근 방식에 비해 생산 비용을 더욱 절감할 수 있습니다. 또한, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ는 효율이 높은 공정 가스 전달 시스템을 사용하여 전구체 및 화학 사용량을 줄여 재료 비용을 줄이고 환경 영향을 줄입니다. AMAT Centura 5200 DxZ는 고도의 다용도 원자로로서, 정확한 정확도로 고급 재료를 생산하기 위한 최첨단 솔루션을 제공합니다. 즉, 직관적이고, 자동화된 소프트웨어와 다양한 고급 (advanced) 기능을 활용함으로써 고급 자재 처리 (advanced materials processing) 에 의존하는 업계의 변화하는 요구를 충족시킬 수 있습니다.
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