판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS #9211801
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판매
ID: 9211801
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 1998
Metal etcher, 6"
P/N: 0010-70789
Chamber
Centura mainframe
(3) Process chambers
Chamber A: DPS Metal
Chamber B: DPS Silicon
Chamber C: MxP+ Oxide, MxP+ RF match
Chamber E / F: Remote orienter
Centura Gas panel
Narrow body tilt-out loadlocks
End point detection
HP Robot
Centura DPS Cathode
(2) SEIKO SEIKI STP-301CB1 Turbo molecular pumps
Power distribution cabinet
Remote power supply cabinet:
(2) SEIKO SEIKI STP-A1303C Controllers
APC Backup battery
SEIKO SEIKI STP-H1000C Control unit
RFPP LF-5 RF Power supply
RFPP RF20R Generator
ADVANCED ENERGY HFV 8000 RF Generator
(2) ENI OEM-12B3 RF Generators
(2) NESLAB HX-150 Chillers
(2) EDWARDS iH80 Pumps
(2) EDWARDS QDP80 Dry pumps
(2) APPLIED MATERIALS Heat exchanger carts
Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz, 3 Phase, 320 A
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS는 넓은 지역에 걸쳐 등각 층의 재료를 배치하도록 설계된 대규모 200mm 증착 장비입니다. 이 원자로는 높은 정확도, 다중 구역 기판 온도 제어, 열 제어 증착 챔버, 그리고 각 웨이퍼의 기판 모양을 충족시킬 수있는 3 중 스타일 가스 전달 시스템 (triple-style gas delivery system) 을 특징으로합니다. 이 장치는 화학 증기 증착 (CVD), 원자층 증착 (ALD) 및 원자층 에칭 (ALE) 을 포함한 여러 제조 공정과 호환되도록 설계되었습니다. AMAT Centura 5200 DPS는 균일성, 반복성 및 기판 범위가 높은 초박형 필름을 배치하기위한 고급 기계입니다. 최대 200 ~ 500 나노 미터 두께의 필름을 최대 1000 nm/h의 속도로 증착 할 수 있습니다. 섀시는 알루미늄, 실리콘, 스테인레스 스틸로 구성되어 있어 열 성능을 저하시키지 않고 내구성을 극대화합니다. 또한 여러 공구에 맞는 대형 종항아리 (bell-jar) 를 갖추고 있으며, 하나의 공구에 여러 반지름 및 튜브 길이를 유지할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS는 사용 편의성, 유지 보수 및 청소를 위해 제작되었습니다. 온보드 비 컨택트 웨이퍼 매핑 에셋이 있으며, 오염없이 반복 가능하고 안전한 웨이퍼 이동이 가능합니다. 또한 자동 압력 제어 (Pressure Control) 및 대량 흐름 컨트롤러 (Mass Flow Controller) 를 통해 정확성과 반복 가능성을 보장합니다. 이 모델은 완전한 자동화 프로세스 (Fully Automated Process) 와 수동 명령 (Manual Command) 을 제공합니다. Centura 5200 DPS는 또한 가스 누출 또는 골절을 감지 할 수있는 자동 누출 테스트 장비를 갖추고 있습니다. 시스템 무결성 (Integrity) 을 자동으로 점검하면 신속하게 조정할 수 있고, 비용이 많이 드는 수리 또는 지연을 피할 수 있습니다. 이 장치에는 압력과 온도를 보다 효율적으로 조절하기위한 고급 열 관리 머신 (Advanced Thermal Management Machine) 이 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS는 고품질 박막 증착을위한 신뢰할 수있는 증착 도구입니다. 정확성과 반복성이 높은 MEMS 및 NEMS와 같은 고정밀 고급 재료 및 나노 구조를 생산하는 데 이상적입니다. 이 자산은 칩 제조업체, 연구 및 실험실 응용을위한 성능 및 고급 멀티 존 (multi-zone) 온도 제어 기술을 결합합니다.
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