판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5000 #9373103

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5000
ID: 9373103
웨이퍼 크기: 2"-6"
CVD System, 2"-6" ICP 3 Channels.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5000은 반도체 제조에 사용하도록 설계된 고성능 증착 및 에치 원자로입니다. 메모리 칩, 논리 IC, 태양 전지, 디스플레이 등 고급 반도체 장치 및 부품을 생산하는 데 이상적입니다. 이 원자로는 매우 높은 진공 기술을 사용하여 처리 정밀성과 반복성을 향상시킵니다. AMAT Centura 5000은 고수율 및 고품질 결과를 제공하는 고급 프로세스 제어 및 품질 보증 기능을 제공합니다. 정확한 온도, 시간, 압력 제어 (Pressure Control) 를 통해 매번 일관되고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있으므로 구성 요소를 매우 정확하고 효율적으로 확장할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura 5000은 AMAT MagneLink 제어 시스템을 사용하여 프로세스 결과를 실시간으로 분석할 수 있으며, 최적의 결과를 보장하도록 조정할 수 있습니다. 프로세스 제어 및 품질 보증 외에도, Centura 5000 은 광범위한 재료 솔루션을 제공합니다. PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 시스템은 원자 수준의 재료를 추가하여 뛰어난 균일성 및 재료 무결성을 제공합니다. 급속한 열 처리 (thermal processing) 기능을 통해 매우 정확하고 정밀하게 재료의 빠른 원자층 증착이 가능합니다. 그 반응성 이온 에치 시스템 (reactive ion etch system) 은 또한 구조에서 재료를 고도로 충실하게 제거 할 수 있으며, 이는 섬세하고 복잡한 기능을 구축하기에 이상적인 선택입니다. 원자로는 또한 고급 기판 처리 솔루션 (advanced substrate handling solutions) 을 갖추고 있으며, 최고 구경의 웨이퍼와 표면을 효율적으로 처리 할 수 있습니다. 전반적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5000은 반도체 제조 응용 분야를 위해 설계된 고급 증착 및 에치 원자로입니다. 고수율 (HI) 을 창출하고 탁월한 정확성과 반복성을 유지할 수 있는 다양한 기능이 있습니다. PECVD, 빠른 열 처리 (rapid thermal processing), 반응성 이온 에치 (reactive ion etch) 및 기판 처리 솔루션은 모두 라인의 최상위에 있으므로 최고 품질의 컴포넌트를 생산할 때 이상적인 선택입니다.
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