판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9311420

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 일반적으로 반도체 또는 관련 기판에 박막을 퇴적시키는 데 사용되는 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 공정 챔버 (process chamber) 에 전구체 가스가 도입되어 원하는 박막 (thin film) 을 퇴적시키기 위해 기판과 반응하는 저압 또는 진공 CVD 시스템을 사용합니다. AMAT P-5000 은 한 번에 최대 8 개의 단일 웨이퍼 기판을 수용할 수 있도록 설계되었으며, 다양한 구성 요소로 구성하여 특정 프로세스 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 공정 챔버는 알루미늄으로 구성됩니다. 처리 중 기판의 시각적 검사를 제공하는 쿼츠 뷰 포트. 이 챔버에는 저항성 난방 전자 증착 소스와 샤워 헤드 (shower head) 어셈블리가 장착되어 있습니다. 전자 증착원 (electronic deposition source) 은 기판에 발생하는 프로세스에 필요한 에너지를 제공하는 반면, 샤워 헤드 어셈블리는 사전 청소, 플라즈마 에칭 (plasma etching), 사후 청소 (post-cleaning) 등 다양한 사전/사후 처리 절차에 사용됩니다. 챔버에는 프로세스 챔버에 전구체 가스 도입을 제어하기위한 MFC (Mass Flow Controller) 와 우수한 프로세스 균일 성을 유지하기 위한 쿼츠 라이너 (Quartz Liner) 도 포함됩니다. APPLIED MATERIALS P 5000 컨트롤러는 5 인치, 컬러 VGA 디스플레이, 마우스 및 막 키패드를 갖춘 단일 보드 컴퓨터 시스템으로, 사용자가 명령을 입력할 수 있습니다. 또한 나중에 리콜 할 레시피를 저장할 수있는 100 개가 넘는 레시피가 포함되어 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000은 산화 알루미늄, 질화물, 산화물 등 유전체 물질을 포함하여 광범위한 재료와 박막을 증착 할 수 있습니다. 이 장치 는 또한 "알루미늄 '," 니켈' 및 "티타늄 '과 같은 금속 을 퇴적 시키는 데 사용 된다. 그 외에도, P 5000은 유기 금속 가스 소스를 처리하도록 구성 될 수있다. 결론적으로, AMAT P5000은 반도체 산업에서 광범위하게 사용되는 박막 증착을위한 중요한 도구입니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 의 다양한 구성 요소를 사용하면 뛰어난 프로세스 균일성과 제어, 그리고 다양한 유형의 재료를 처리할 수 있습니다.