판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT 3500 SC PECVD #9011154

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 SC PECVD는 유전체 및 기타 재료의 매우 얇은 필름을 생산하도록 설계된 차세대 생산 원자로입니다. 이 원자로는 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 라는 프로세스를 사용하여 유리, 플라스틱 및 금속과 같은 기판에 고품질의 저가 필름을 만듭니다. 원자로에는 저압 플라즈마 챔버 (plasma chamber) 가 장착되어 있으며, 진공 및 화학 반응을위한 4 개의 별개의 챔버로 나뉩니다. 또한 인성 및 질소의 증착 원을 포함하고 있으며, 이를 통해 사용자는 산화 실리콘과 같은 필름을 증착 할 수 있습니다. 플라즈마 챔버에는 프레온 RF (Freon RF) 소스가 장착되어 있어 증착 온도가 낮아 뛰어난 필름 특성 및 기판 호환성을 보장합니다. 총 챔버 (chamber) 부피 역시 필름의 공극을 줄입니다. 즉, 박막 (thin film) 을 증착 할 때도 필름은 최적의 성능을 위해 우수한 전기 특성을 제공 할 수 있습니다. 원자로 (reactor) 는 혁신적이고, 통합적이며, 완전히 제어되는 소스 가스 전달 장비를 갖추고 있으며, 다양한 응용 프로그램에 대해 필름 전구체를 사용자 정의할 수 있습니다. 또한 이 시스템은 가스 활용도를 극대화하고, 프로세스 비용을 절감할 수 있도록 설계되었습니다. 또한, 원자로에는 유기 물질을 제거하기위한 자동 청소 서열 (automated cleaning sequence) 이 포함되어 있으며, 균일 한 필름으로 반복 가능한 공정을 위해 깨끗하고 건조한 공정 챔버를 제공합니다. AKT 3500 SC PECVD는 최소 0.2 미크론의 박막 제작이 가능합니다. 원자로에는 필름 광학 밀도 (film optical density) 와 조성 (composition) 을 포함하여 증착 매개변수를 정확하게 제어 할 수있는 반응성 가스 분사 장치가 장착되어 있습니다. 이 기계는 필름 품질을 극대화하고 기판 전체에서 필름 균일성을 향상시킵니다. 전반적으로 AMAT 3500 SC PECVD는 균일성, 두께, 전기적 특성이 개선 된 고품질 박막 증착을 만들도록 설계된 고급 생산 원자로입니다. 이 원자로는 첨단 기술 (advanced technologies) 을 활용하여 배출량 및 비용을 절감하여 생산능력을 넓힐 수 있습니다. 이 원자로는 자동화된 시스템과 정확한 소스 제어 (source control) 덕분에 박막 증착 프로세스를 위한 안정적이고, 효율적이며, 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다.