판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9156161

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ID: 9156161
PECVD Chamber Front Front Monitor: Ok Back Monitor: Ok Load port: Sensors, Cass plate Signal tower: R,Y,G,W Robot: ATM robot & Vacuum chuck Slit door: Open Laminar flow: Load port laminar flow Wafer transfer module Robot: No Baratron gauge: No Buffer door lift : Ok Buffer Isolation valve: Ok Buffer throttle valve: Ok Cool chamber: Ok Process module CH# A RF Match: HMN302D CH# B RF Match: Ok CH# C RF Match: Ok CH# D RF Match: No CH# A Gate valve: No CH# B Gate valve : AV-4.0-MOD CH# C Gate valve: Ok CH# D Gate valve: Ok CH# A Throttle valve: 153F-4-100-2 CH# B Throttle valve: No CH# C Throttle valve: Ok CH# D Throttle valve: Ok CH# A Heater lift: No CH# B Heater lift: No CH# C Heater lift: Ok CH# D Heater lift: No Controller Board: DI/O,AI/O : Ok DC power supply: Ok CH# A Baratron gauge: MKS CH# B Baratron gauge :Ok CH# C Baratron gauge : Ok CH# D Baratron gauge : Ok Regulator box Span sensor: Ok Manual v/v & Regulator: Ok Gas panel NF3: 2SLM Ar: 300SCCM NH3: 2500SCCM N2: 5SLM SiH4: 500SCCM 1%PH3/H2: 1SLM H2: 3SLM B2H6 System control rack Interface board: DI / O, Seriplex, VME, CPU DC power supply: Ok Pump control module: Ok Servo DC power supply: Ok Main frame Power rack Generator Chamber A RFPP RF20S: 2666 Chamber B RFPP RF20S: NPG2K10S005 Chamber C RFPP RF20S: No Chamber D RFPP RF20S: No Pump Chamber A QMB500 + QDP80 Chamber B QMB500 + QDP80 Chamber C QMB500 + QDP80 Chamber D QMB500 + QDP80 TM pump QDP40 Load/Lock chamber QDP40 Scrubber: Main scrubber CDO859 Back-up scrubber CDO858 Heatexchanger SPEED-7000 Missing and ETC parts : ETC: Part step ( scaffolding ).
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 1600 원자로는 반도체 응용을 위해 설계된 대규모 화학 증기 증착 (CVD) 시스템입니다. 박막 재료 및 구조를 생산하기위한 최첨단 산업용 원자로입니다. 이 시스템의 고급 증착 기술은 탁월한 단일 웨이퍼 균일성, 탁월한 프로세스 제어, 안정적인 운영, 낮은 소유 비용을 제공합니다. 원자로에는 열적 총 증폭기로 연결된 고출력, 가스 냉각 전자 총 (gun-power, gas-cooled electron gun) 이 장착되어 기판 온도, 챔버 압력, 가스 흐름 및 증착율을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 에치 칼라 (etch collar) 는 입자 오염을 줄이는 데 도움이되고 금속 드럼 기반 디자인은 균일성과 구리 기반 박막을 더욱 향상시킵니다. 원자로는 실리콘 웨이퍼, 갈륨 비소, 석영, 유리 및 산화 알루미늄을 포함하여 직경이 최대 152mm 인 다양한 기질을 수용 할 수 있습니다. 그것 은 "알루미늄 ', 구리," 니켈' 과 같은 반도체 금속 으로부터 질화 "실리콘 '및 산화" 알루미늄' 과 같은 유전체 에 이르기까지 매우 다양 한 물질 을 가공 할 수 있다. 이 시스템에는 자동화된 소스 튜닝, 진공 수준 제어, 플라즈마 진단 (Plasma Diagnostics), 자동 가스 전달 (Automated Gas Delivery) 및 테스트 스크립트 (Test Script) 와 같은 여러 가지 고급 기능이 장착되어 프로세스 간소화를 지원합니다. Color Touch Screen Display 및 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 를 사용하면 실행 중인 모든 매개변수를 빠르고 정확하게 모니터링할 수 있습니다. 또한, AKT 1600 원자로는 여러 로드 락 챔버, 병렬 공정 챔버, 샘플 사전/후처리를위한 대기 모듈 (atmospheric module) 등 다양한 옵션으로 지원됩니다. 전반적으로 AMAT AKT1600 CVD 시스템은 균일성이 뛰어난 고품질의 저가형 박막을 생산할 수 있습니다. 고급 기능과 사용이 간편한 GUI (Graphical User Interface) 를 통해 우수한 증착 품질과 안정성을 필요로 하는 프로세스에 적합합니다.
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