판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 1010-01116 #293746889

AMAT/APPLIED MATERIALS 1010-01116은 박막 증착 공정에 반도체 산업에 사용되는 고도의 다용도 화학 증기 증착 (CVD) 원자로 장비입니다. 세계 반도체 및 관련 산업을 위한 장비 및 서비스 분야의 선두 업체인 AMAT (AMAT) 가 개발한 AMAT 1010-01116 원자로는 대용량 생산 환경의 까다로운 요구사항을 충족하는 한편, 탁월한 필름 품질과 프로세스 제어를 제공하도록 설계되었습니다. APPLIED MATERIALS 1010-01116 원자로의 핵심에는 반도체 기판에서 다양한 박막 증착을위한 통제 된 환경을 제공하는 최첨단 챔버 (state-of-art chamber) 가 있습니다. 원자로 (reactor) 는 공정 가스의 유속 및 비율을 정확하게 제어 할 수있는 고순도 가스 전달 시스템 (high-purity gas delivery system) 을 특징으로하며, 예외적 인 필름 특성을 갖는 박막의 균일하고 재현 가능한 증착을 보장한다. 이 고급 가스 전달 장치 (Advanced Gas Delivery Unit) 에는 안정적이고 깨끗한 프로세스 환경을 유지하기 위해 대량 흐름 컨트롤러, 압력 조절기 및 가스 정화기가 장착되어 있습니다. 1010-01116 원자로에는 증착 과정에서 기판 온도를 정확하게 제어 할 수있는 정교한 온도 조절 머신 (temperated temperature control machine) 이 장착되어 있습니다. 이 온도 조절 도구 (temperature control tool) 는 특정 공정의 요구 사항에 따라 주변 온도에서 고온 범위의 온도에서 박막 (thin film) 을 증착 할 수 있습니다. 원자로에는 또한 박막 (thin film) 의 증착 후 치료가 결정 성과 전기 특성을 개선 할 수있는 빠른 열 어닐링 (thermal annealing) 자산이 장착되어 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS 1010-01116 원자로의 주요 특징 중 하나는 고급 플라즈마 세대 모델로, 필름 밀도, 균일 성, 접착과 같은 향상된 필름 특성을 가진 고품질 박막을 증착 할 수 있습니다. 원자로에는 고출력 무선 주파수 (RF) 플라즈마 소스가 장착되어 있어 증착 공정을 강화하고 고품질 박막 (thin film) 형성을 촉진한다. "플라즈마 '생성 장비 는 또한" 실리콘', "실리콘 게르마늄 ', 탄화" 실리콘' 및 기타 화합물 의 반도체 를 포함 하여 광범위 한 물질 의 증착 을 가능 케 한다. AMAT 1010-01116 원자로는 유연성과 확장성을 위해 설계되었으며, 기존 반도체 생산 라인에 쉽게 통합되고, 다른 원자로 시스템 간에 원활한 공정 이동이 가능합니다. 원자로에는 사용자 친화적 인 인터페이스와 고급 프로세스 제어 소프트웨어 (Advanced Process Control Software) 가 장착되어 있어 운영자가 실시간으로 증착 프로세스를 모니터링, 제어하고, 프로세스 매개변수를 최적화하고, 여러 웨이퍼에 걸쳐 박막 증착의 재현성과 일관성을 보장할 수 있습니다. 결론적으로, APPLIED MATERIALS 1010-01116 원자로는 반도체 제조에서 박막 증착에 대한 뛰어난 성능, 안정성 및 공정 제어를 제공하는 고도의 다목적 CVD 원자로 시스템입니다. 고급 챔버 설계, 가스 전달 장치, 온도 조절 기계, 플라즈마 생성 도구 및 공정 제어 소프트웨어, 1010-01116 원자로는 반도체 산업의 박막 증착 프로세스에 대한 새로운 표준을 설정하여 고객이 뛰어난 필름 품질, 프로세스 반복 가능성 및 생산 효율성을 달성 할 수 있습니다.