판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0751-3400-020W #293751474

AMAT/APPLIED MATERIALS 0751-3400-020W는 다양한 고급 반도체 제조 공정을 위해 설계된 고성능 원자로입니다. 스마트폰· 컴퓨터· 자동차 등 다양한 전자제품에 사용되는 반도체 (반도체) 기기 생산에 중요한 도구다. 이 원자로는 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 에 박막 (thin film) 과 식각 (etching) 재료를 퇴적시키는 데 정확성, 신뢰성 및 효율성으로 반도체 산업에서 널리 활용되고 있습니다. AMAT 0751-3400-020W 원자로의 주요 특징 중 하나는 다양한 설계 (deposition and etching process) 입니다. 그것 은 질화물 "실리콘 ', 산화물" 실리콘', 금속 "필름 '및 그 밖 의 다른 반도체 재료 들 을 고도 의 균일성 과 정밀도 로 처리 할 수 있다. 원자로에는 고급 제어 시스템 (Advanced Control System) 과 모니터링 도구 (Monitoring Tools) 가 장착되어 있어 여러 프로덕션 실행에서 일관되고 재현 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. APPLIED MATERIALS 0751-3400-020W 원자로에는 고밀도 플라즈마 소스와 고급 가스 전달 시스템을 포함한 최첨단 플라즈마 기술이 장착되어 있습니다. 이러한 기능을 사용하면 이온 밀도, 에너지 분배 및 온도와 같은 플라즈마 매개변수를 정확하게 제어하여 프로세스 제어 및 균일 한 필름 증착을 향상시킵니다. 또한, 원자로는 오염을 최소화하고 고품질 필름 증착을 보장하기 위해 진공 조건에서 작동하도록 설계되었습니다. 견고한 진공 펌프 (vacuum pump) 장비가 장착되어 있어 최적의 프로세스 성능을 위해 필요한 진공 수준을 신속하게 달성하고 유지할 수 있습니다. 진공 시스템은 안전 (safety) 기능과 통합되어 장치 장애를 예방하고 작동 중 운영자의 안전을 보장합니다. 증착 능력 외에도, 0751-3400-020W 원자로는 반도체 웨이퍼에서 박막을 패턴화하는 공정을 에칭하는 데 사용됩니다. 원자로에는 고급 에치 화학 (etch chemistry) 기능과 공정 제어 (process control) 기능이 장착되어 있어 정확한 에칭 프로파일과 높은 화면 비율의 깊은 트렌치를 달성합니다. 이 기능은 고급 집적회로 및 기타 전자 장치에 필요한 복잡한 반도체 (semiconductor) 구조를 만드는 데 필수적입니다. 또한, 이 원자로는 빠른 주기 시간, 효율적인 웨이퍼 처리 시스템, 자동화된 프로세스 제어 (Automated Process Control) 등의 기능을 갖춘 높은 처리량 생산 환경을 위해 설계되었습니다. 이러한 기능을 통해 반도체 제조업체는 고품질 표준을 유지하면서 생산 용량을 늘리고 제조 비용을 줄일 수 있습니다 (영문). 전반적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS 0751-3400-020W 원자로는 정밀도, 균일성 및 효율성이 높은 실리콘 웨이퍼에 박막 및 에칭 재료를 증착하기위한 반도체 산업의 중요한 도구입니다. 고급 플라즈마 (Plasma) 기술, 진공기, 공정 제어 기능, 높은 처리량 (Throughput) 기능을 통해 탁월한 필름 품질 및 공정 제어가 필요한 반도체 제조 공정을 다양하고 안정적으로 선택할 수 있습니다.