판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0242-73400-1 #9129478

AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 0242-73400-1은 이중실, 저압, 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 그것 은 유전체, 질화물, 전도성 산화물, 기타 금속 들 을 온갖 종류 의 반도체 기질 에 적합 하게 증착 시키도록 설계 되었다. "깨어라!" ( 이 원자로의 주요 특징은 소형 크기와 유연성입니다. 다른 프로세스 챔버 구성에 맞게 조정할 수 있습니다. 원자로에는 2 개의 공정 챔버가 장착되어 있으며, 첫 번째는 1 차 챔버입니다. 1 차 약실은 CVD 공정의 핵심이며, 기판을 수용하는 약실입니다. 그것은 석영 반응기 튜브, 스테이지/기판 홀더, 배기 구역 및 가열 된 섹션으로 구성됩니다. 1 차 및 2 차 챔버에는 수동 밸브가 장착되어 있으며, 이를 통해 가스 도입이 제어됩니다. 석영 원자로 튜브 (quartz reactor tube) 는 증착 과정에서 가스 수송을 담당하며, 25 ~ 1000 ° C의 온도로 작동 할 수 있습니다. 가열 된 부분은 기판이 증착 과정에 대해 가열되는 곳입니다. 난방 코일에 연결되며 0 ~ 1000 ° C 사이에서 조정할 수 있습니다. 기판 "홀더 '자체 는 증착 과정 중 에 적당 한 압력 조절 을 위한 배기" 시스템' 을 갖추고 있다. 2 차 챔버 (secondary chamber) 는 1 차 챔버에 도입되기 전에 가스를 처리하는 데 사용됩니다. 난방 블록, 가스 소개 영역, 매니 폴드 및 필터로 구성됩니다. "가스 '소개 구역 은" 가스' 의 조절 된 도입 과 "실레인 '및" 클로로알루미네이트' 와 같은 화학 물질 의 도입 을 허용 한다. AMAT/AKT 0242-73400-1은 모든 종류의 반도체 기판에 박막을 퇴적시키는 이상적인 원자로입니다. 작은 크기와 다양한 챔버 (chamber) 구성에 적응할 수 있으므로 유연성이 매우 뛰어납니다. 또한, 광범위한 온도 및 "가스 '로 작동 할 수있는 용량은 기판에 다양한 재료를 침전시켜, 상당한 양의 공정 제어 (process control) 를 가능하게한다.