판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0190-04213 #293724056

ID: 293724056
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2001
Primary A/C distribution for HDPCVD, 12" 2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0190-04213 원자로는 반도체 제조 공정에 사용되는 고도로 발전된 도구입니다. PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) 원자로라고도하는이 원자로는 이산화실리콘, 질화물 실리콘, 기타 고급 박막 재료. AMAT 0190-04213 원자로의 주요 특징 중 하나는 증착 과정에서 높은 수준의 정밀도 및 제어입니다. 고급 가스 흐름 제어 시스템, 온도 조절 메커니즘, 플라즈마 생성 (plasma generation) 기능 및 기타 필수 구성 요소가 장착되어 실리콘 웨이퍼에서 박막 (thin film) 의 일관되고 균일 한 증착을 보장합니다. 원자로 는 고온 과 압력 에서 작동 할 수 있으며, 그 로 인해 두께 와 질 이 정밀 한 박막 을 증착 할 수 있다. 그 "로우터 '는 고온 과 압력 으로 작동 할 수 있다. APPLIED MATERIALS 0190-04213의 원자로 챔버 (reactor chamber) 는 증착 과정의 가혹한 조건을 견딜 수있는 고품질 재료로 만들어졌습니다. 약실 은 "가스 '의 흐름, 온도, 압력 을 조절 하여 최적 의" 필름' 증착 을 보장 하는 안정 된 환경 을 유지 하도록 설계 되었다. 원자로에는 또한 플라즈마 소스 (plasma source) 가 장착되어 있는데, 이는 전구체 가스를 활성화시키고 웨이퍼 표면에 박막 형성을 촉진시키는 플라즈마를 생성한다. 0190-04213 원자로는 정교한 공정 제어 시스템 (process control system) 을 갖추고 있어 증착 과정에서 다양한 매개변수를 정확하게 모니터링하고 조정할 수 있습니다. 연산자는 각 증착 실행에 대해 특정 레시피와 매개변수를 설정하여 일관성 있고 재생성 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 원자로는 또한 여러 증착 단계를 순차적으로 수행하도록 프로그래밍 될 수있다. 따라서 박막 재료 (thin film material) 가 다른 복잡한 다층 구조를 만들 수있다. 고급 증착 기능 외에도 AMAT/APPLIED MATERIALS 0190-04213 원자로에는 운영자를 보호하고 가동 중 잠재적 인 사고를 예방하기위한 안전 기능이 장착되어 있습니다. 원자로 (Reactor) 는 증착 과정에서 생성 된 유해 가스 또는 부산물을 포함하도록 설계되어 운영자에게 안전한 작업 환경을 보장합니다. 고장 또는 비정상적인 상황의 경우 증착 과정 (deposition process) 을 신속하게 중지하기 위해 비상 셧다운 (emergency shutdown) 시스템이 마련되어 있습니다. 전반적으로 AMAT 0190-04213 원자로는 반도체 제조에서 박막 증착을위한 최첨단 도구입니다. 첨단 기능, 정밀 제어 기능, 높은 신뢰성 등을 통해 다양한 반도체 소자에 사용되는 고품질 박막 (Thin Film) 을 제작하는 데 필수적인 도구입니다. 이 원자로는 복잡한 다층 (multilayer) 구조와 안전 (safety) 기능을 만들어 내면서, 박막 증착 공정에서 우수한 성능과 품질을 얻고자 하는 반도체 제조업체에 귀중한 자산입니다.
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