판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0190-03745 #293712594

AMAT/APPLIED MATERIALS 0190-03745는 반도체 기판에서 박막 증착을 위해 반도체 산업에 사용되는 최첨단 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 이 원자로는 전 세계 반도체 산업을 위한 장비, 서비스, 소프트웨어 공급업체인 AMAT Inc. (AMAT Inc.) 가 설계 및 제조했습니다. AMAT 0190-03745 모델은 높은 처리량, 확장성 및 프로세스 유연성으로 유명한 CVD 원자로의 생산자 시리즈의 일부입니다. APPLIED MATERIALS 0190-03745 원자로의 주요 특징 중 하나는 고도 정밀도 및 증착 공정 제어입니다. 원자로에는 고급 온도 조절 시스템 (temperature control system), 가스 전달 시스템 (gas delivery system) 및 진공 시스템 (vacuum systems) 이 장착되어 전체 기판에 균일 하고 반복 가능한 필름 증착을 보장합니다. 온도 조절 장비 (temperature control equipment) 를 사용하면 강착 과정에서 기판 온도를 정확하게 제어할 수 있으며, 이는 원하는 필름 특성 (film properties) 과 두께 (thickness) 를 달성하는 데 중요합니다. 원자로의 가스 전달 시스템 (gas delivery system) 은 증착 과정에 필요한 전구체 가스를 정확하게 혼합하고 전달하도록 설계되었습니다. 원자로 는 여러 개 의 전구체 "가스 '를 수용 할 수 있으며, 그 로 인해 각기 다른 성질 을 가진 광범위 한 박막 이 증착 될 수 있다. "가스 '유량 과 혼합비 를 조절 하고 조정 하여 증착 과정 을 최적화 하고, 높은" 필름' 질 과 균일성 을 보장 할 수 있다. 0190-03745 원자로의 진공 장치는 CVD 프로세스에 필요한 조건을 만들고 유지하는 데 중요한 역할을합니다. 원자로에는 박막의 증착을 위해 깨끗하고 통제된 환경이 조성될 수 있는 고성능 "펌핑 머신 (Pumping Machine) '이 장착돼 있다. 진공 공구 (vacuum tool) 는 또한 필름 품질과 성능에 영향을 줄 수있는 오염 물질과 불순물을 제거하는 데 도움이됩니다. 원자로의 웨이퍼 처리 자산 (wafer handling asset) 은 높은 처리량 및 자동화를 위해 설계되었으며, 단일 증착 실행에서 여러 기판을 동시에 처리 할 수 있습니다. 이 모델은 빠르고 효율적으로 웨이퍼를 로드하고 언로드할 수 있으며, 주기 (cycle) 시간을 줄이고 생산성을 높일 수 있습니다. 웨이퍼 처리 (wafer handling) 장비는 또한 웨이퍼 파손을 최소화하고 증착 과정에서 기판의 적절한 정렬 및 위치를 보장하도록 설계되었습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS 0190-03745 원자로에는 고급 프로세스 모니터링 및 제어 시스템이 장착되어 증착 프로세스의 안정성과 재현성을 보장합니다. 원자로 (Reactor) 는 온도, 가스 유속, 압력 등 주요 매개변수를 정확하게 제어하여 미리 정의 된 공정 레시피를 따르도록 프로그래밍 될 수있다. 실시간 모니터링 및 피드백 (feedback) 시스템은 프로세스 상태를 지속적으로 모니터링하고 필요에 따라 조정하여 원하는 필름 속성과 품질을 유지합니다. 결론적으로, AMAT 0190-03745 원자로는 반도체 산업에서 박막 증착을위한 고도로 고급적이고 신뢰할 수있는 도구입니다. 이 원자로는 정밀 제어 시스템 (Precision Control System), 높은 처리량, 고급 프로세스 모니터링 (Process Monitoring) 기능을 갖춘 반도체 제조업체에게 박막 증착 요구를 충족시키는 다용도 및 효율적인 솔루션을 제공합니다.