판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0100-01321 #293657574

AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-01321은 반도체 웨이퍼 및 기타 울트라 틴 재료를 처리하도록 설계된 원자로입니다. 그것 은 "와퍼 '위 에 선택 된 재료 의 얇은 층 을 조절 속도 로 배치 하는 데 사용 된다. 이것은 반도체 공정의 중요한 부분이며, 증착 공정의 품질 (quality of the deposition process) 을 보장하기 위해 정확하고 신뢰할 수있는 장비가 필요합니다. AMAT 0100-01321은 반도체 산업의 요구 사항을 충족하도록 특별히 설계된 CVD (multi-station chemical vapor deposition) 원자로입니다. 응용 자료 0100-01321에는 고급 CVD 공정 챔버 및 시스템이 장착되어 있습니다. CVD 원자로는 400 ° C ~ 1000 ° C의 고온 능력을 가지고 있습니다. 이 온도 범위는 원하는 재료 특성 (material properties) 을 달성하고 프로세스 전체에서 품질 제어를 유지합니다. 또한 CVD 장치는 고급 프로세스 제어 (Process Control) 소프트웨어를 사용하여 증착 프로세스의 매개변수를 지속적으로 모니터링하고 조정합니다. 이를 통해 최종 제품의 프로세스 안정성 (process stability) 및 일관된 재료 특성 (material properties) 이 높아집니다. 0100-01321 에는 성공적인 증착을 위해 다양한 도구와 액세서리가 장착되어 있습니다. 여기 에는 증착 과정 을 지원 하는 데 사용 되는 "가스 '와 원자로" 와퍼' 를 순환 하는 진공 "펌프 '가 포함 된다. 또한, CVD 원자로에는 최첨단 프로세스 분석 및 제어가 가능한 실시간 모니터링 머신이 통합되어 있습니다. 마지막으로, 빠르고 안정적인 재료 로딩 및 언로드를 위해 자동화된 스크래치 없는 웨이퍼 처리 도구가 포함되어 있습니다. 요약하면, AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-01321은 안정적이고 정확한 증착 과정을 제공하는 최첨단 CVD 원자로입니다. 높은 온도 범위, 고급 소프트웨어, 다양한 도구와 액세서리를 갖춘 AMAT 0100-01321 (AMAT 0100-01321) 은 반도체 업계에 이상적인 선택입니다.