판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0090-08822 #293756488

AMAT/APPLIED MATERIALS 0090-08822는 기판에서 박막 증착을 위해 반도체 산업에서 일반적으로 사용되는 최첨단 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 이 고성능 원자로는 세계 반도체 업계를 위한 장비, 서비스, 소프트웨어 공급업체인 AMAT (AMAT) 가 설계, 제조한 제품입니다. AMAT 0090-08822 원자로의 주요 특징 중 하나는 고급 공정 제어 기능으로, 온도, 압력, 가스 흐름 속도, 공정 시간 등의 증착 매개변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 수준의 제어는 균일하고 고품질의 필름 증착을 달성하는 데 필수적이며, 이는 차원이 점점 더 작아지고 성능 요구 사항이 높아지는 고급 반도체 (advanced semiconductor) 장치의 제작에 매우 중요합니다. APPLIED MATERIALS 0090-08822의 원자로 챔버 (reactor chamber) 는 CVD 작동 중에 일반적으로 발생하는 가혹한 공정 조건을 견딜 수있는 고급 스테인레스 스틸 또는 기타 내구성 재료로 만들어집니다. 이 약실 은 오염 과 미립자 의 수준 이 낮은, 조절 된 환경 을 유지 하도록 설계 되어 있으며, 퇴적 된 "필름 '의 순도 와 그 과정 의 전반적 인 신뢰성 을 보장 해 준다. 원자로에는 다양한 공정 가스 (process gase) 와 부산물의 도입 및 제거를 용이하게하기 위해 여러 개의 가스 입구 (gas inlet) 및 배기 포트가 장착되어 있습니다. 이 포트는 전략적으로 챔버 내에서 가스 분포를 최적화하고 가스 상 반응 (gas-phase reactions) 또는 비 균일 한 필름 증착의 위험을 최소화하기 위해 위치합니다. 0090-08822 원자로의 가열 시스템은 기판 및 챔버 벽 (chamber wall) 의 빠르고 균일 한 가열을 원하는 공정 온도까지 제공하도록 설계되었습니다. 이것 은 "필름 '증착 을 촉진 시키고 증착 된" 필름' 의 무결성 을 보장 하는 화학 반응 을 촉진 시키는 데 필수적 이다. 원자로에는 공정 압력 (process pressure) 을 정확하게 제어할 수있는 정교한 진공 시스템 (vacuum system) 이 장착되어 있다. 정확 한 압력 을 유지 하는 것 은 퇴적 된 "필름 '의 성장률, 균일성, 성분 을 조절 하는 것 과 결함 이나 불순물 의 형성 을 막는 데 중요 하다. 또한 AMAT/APPLIED MATERIALS 0090-08822 원자로는 플라즈마 강화 CVD 프로세스를위한 고급 플라즈마 생성 시스템을 갖추고 있습니다. 플라즈마 소스는 공정 가스의 반응성을 향상시키고, 표면 활성화를 촉진하고, 필름 접착 및 균일성을 향상시키는 데 사용된다. 전반적으로 AMAT 0090-08822 원자로는 반도체 업계에서 고성능 CVD 애플리케이션을 위한 최첨단 솔루션입니다. 고급 설계 (Advanced Design), 정밀한 프로세스 제어 (Process Control) 기능, 견고한 구조로 인해 까다로운 사양과 성능 요구 사항이 있는 기판에 박막 (Thin Film) 증착에 이상적인 선택이 가능합니다. 반도체 제조업체는 APPLIED MATERIALS 0090-08822 원자로의 기능을 활용하여 생산성, 생산성, 장치 성능 수준을 높일 수 있으며, 급속히 발전하는 반도체 시장에서 혁신과 경쟁력을 발휘할 수 있습니다.