판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0041-75950 #293669536

AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950은 고급 플라즈마 강화 화학 증발 (PECVD) 원자로입니다. 얇은 재료를 기판에 배치하도록 설계되었습니다. 이러 한 얇은 "필름 '은 태양 광 세포 에서 반도체 장치 에 이르기 까지 매우 다양 한 응용 에 사용 된다. AMAT/APPLICED는 이중 주파수, 유도 결합 된 소스 구동 플라즈마 소스를 갖는다. 이 설계는 플라즈마 매개변수를 최적으로 제어하여 증착 공정에서 더 나은 반복 성 (repeatability) 과 균일 성 (unifority) 을 초래합니다. 원자로에는 통합 가변 주파수, 소스 구동 전원 공급 장치가 있습니다. 이 설계 를 통해 "플라즈마 '의 주파수 와 전력 수준 을 정확 히 제어 할 수 있다. 또한, 원자로에는 프로그래밍 가능한 파형 생성기 (waveform generator) 가 장착되어 있으며, 이를 통해 사용자는 특정 요구에 따라 프로세스 매개변수를 조정할 수 있습니다. 원자로는 수평 마그네트론 소스와 He-gas 소스를 특징으로합니다. 이 설계는 전체 웨이퍼의 균일성을 보장하며, 높은 수준의 프로세스 제어를 허용합니다. 원자로는 N2, O2, CO 및 Ar을 포함한 광범위한 반응 가스를 지원한다. 직경 2 ~ 8 인치의 표준 생산 웨이퍼 크기로 작동하도록 설계되었습니다. APPLIED MATERIALS/APPLIED는 프로세스 소스를 쉽게 교환할 수 있는 모듈식 설계를 특징으로합니다. 이러한 유연성을 통해 사용자는 변화하는 기판 요구 사항에 신속하게 적응할 수 있습니다. 원자로에는 공정 모니터링 시스템 (process monitoring system) 이 탑재되어 있어, 사용자는 증착 과정을 실시간으로 시각화할 수 있습니다. 이것은 일관되고 균일 한 필름 예금을 보장하는 데 도움이됩니다. AMAT/APPLIED MATERIALS/APPLICED는 1 ~ 500 nm/min의 광범위한 증착률을 달성 할 수 있습니다. 이것은 고품질 박막의 증착에 중요한 다양한 핵화 속도를 허용합니다. 원자로는 처리량 (high-throughput) 과 공정 안정성 (process stability) 을 위해 설계되어 대용량 제조 환경에 적합합니다. 결론적으로 AMAT 0041-75950은 다재다능하고 사용자 친화적 인 PECVD 원자로입니다. 다양한 프로세스 소스 (process source) 와 모듈식 설계 (modular design) 를 통해 쉽게 교환할 수 있습니다. 원자로 (Reactor) 는 처리량 및 프로세스 안정성이 높도록 설계되었으며, 광범위한 어플리케이션을 위한 빠르고 안정적인 박막 증착 (Thin Film Deposition) 기능을 제공합니다.