판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0040-54167 #293651851

ID: 293651851
Lower platen assemblies.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0040-54167은 금속의 고정밀 에칭을 위해 설계된 Versalis 에치 원자로입니다. 이 원자로는 반도체 업계의 응용을 위해 설계된 것으로, 정확한 에칭 (etching) 과 깨끗한 재료가 필수적입니다. 원자로 는 금속 챔버 (metal chamber) 를 특징 으로 하는데, 금속 약실 (etchant solution) 과 분리제 (isolating agent) 로 가득 차 있고, 금속 은 기판 의 약실 (chamber) 에 놓여 있다. 전자가 금속쪽으로 가속되고, 에칭으로 이어지는 반응이 일어나면서, 고전압 전원 공급 장치 (high-voltage power supply) 가 에칭 과정을 시작하는 데 사용됩니다. AMAT 0040-54167 원자로에는 여러 가지 혁신적인 기능이 장착되어 있어 에칭이 정확하고 반복 가능합니다. 가변 전력 (Variable Power), 저소음 (Low Noise) 전원 공급 장치가 포함되어 있어 전원과 전류를 금속에 정확하게 제어할 수 있습니다. 이를 통해 에칭 속도를 매우 정확하게 제어할 수 있으므로, 사용자가 안정적이고 반복 가능한 에치 (etch) 기능을 생성할 수 있습니다. 또한, 고급 에찬트 시스템은 조절 가능한 가스 분사 포트와 마이크로 버블 업스트림 냉각 시스템 (micro-bubble upstream cooling system) 을 갖추고 있으며, 둘 다 에칭 시간을 줄이고 에치 결과의 반복성을 향상시킵니다. 에칭 챔버는 최대 에칭 제어를 위해 초고 진공 기술을 사용하여 설계되었습니다. 방은 진공을 제공하는데, 진공은 기존의 에칭 시스템 (etching system) 보다 최대 10 배나 우수하여 반응이 매우 통제 된 조건에서 발생합니다. 업그레이드 가능한 에칭 대기 제어 (eching atmospheric control) 를 통해 사용자는 챔버의 대기를 정확하게 설정할 수 있으며, 이를 통해 에칭을 일관되게 반복 할 수 있습니다. 원자로에는 안전성을 보장하기 위해 설계된 여러 기능이 있습니다. 다수의 안전 프로토콜 시스템 (Multiple Safety Protocol Systems) 은 반응의 압력과 온도를 모두 모니터링하여 위험한 조건을 방지합니다. 또한 APPLIED MATERIALS 0040-54167 원자로는 쉽게 유지 관리 및 서비스되도록 설계되어, 다운타임을 줄이고, 비용이 많이 드는 수리를 방지합니다. 전반적으로, 0040-54167 원자로는 반도체 산업을위한 금속의 정확한 에칭을 위해 설계된 정교한 에칭 도구입니다. 이 기능을 사용하면 에칭 프로세스를 정확하게 제어하고, 반복성을 높이고, 안전을 향상시킬 수 있습니다. 고급 에찬트 시스템 (etchant system) 과 진공 챔버 (vacuum chamber) 설계는 탁월한 에칭 제어를 제공하여 사용자가 작업에서 반복성과 일관성을 달성 할 수 있습니다. 고유한 기능과 안전 프로토콜을 갖춘 AMAT/APPLIED MATERIALS 0040-54167 원자로는 금속을 에칭하기 위한 강력하고 안정적인 도구입니다.
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