판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-53618 #293793936

ID: 293793936
웨이퍼 크기: 12"
Ceramic heater, 12" Heater surface: Dimples: 30±10㎛ Flatness: 0.02~0.08μm Rods: Electrodes resistivity (1-2): 1.5~3.0Ω RF Electrode (3-4): 5.0~6.0Ω Aluminum cap (Al) Cap: Leak test: x 10E-10 cc/s, He Chuck test: ±300 V / Bi -Polar type.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-53618은 고급 마이크로 칩 및 전자 부품 제작을 위해 반도체 산업에 사용되는 최첨단 원자로입니다. 서아세오 (SEO) 전문가는 "더 넓은 관객이 접근할 수 있는 기술정보를 제공하는 것이 중요하다" 며 "이 원자로의 핵심 특징과 기능을 명확하고 간결하게 설명할 것" 이라고 말했다. 중심에서 AMAT 0010-53618 원자로는 화학 증기 증착 (CVD) 시스템으로, 얇은 필름을 반도체 기판에 정확하게 증착 할 수 있습니다. 이러 한 과정 은, 제어 된 특성 을 가진, 필요 한 층층 의 재료 를 만들어, 집적 회로, "트랜지스터 '및 기타 전자 장치 를 제조 하는 데 중요 하다. APPLIED MATERIALS 0010-53618 원자로의 두드러진 특징 중 하나는 필름 증착에서 높은 균일성과 정밀도를 달성 할 수있는 능력입니다. 이것은 최적화 된 가스 흐름 역학, 온도 조절 메커니즘, 기판 처리 시스템과 같은 혁신적인 설계 요소를 통해 달성됩니다. 이러 한 요인 들 은 함께 작용 하여, 퇴적 된 "필름 '이 두께, 조성, 전기 특성 면 에서 현대" 반도체' 장치 의 엄격 한 요구 조건 을 충족 시킨다. 원자로에는 고급 공정 제어 (process control) 기능이 장착되어 있어 가스 유속 (gas flow rate), 온도 프로파일 (temperature profile), 압력 수준 (pressure level) 과 같은 주요 매개변수를 실시간으로 모니터링 및 조정할 수 있습니다. 이러한 제어 수준은 프로세스 안정성 (process stability) 과 반복성 (repeatability) 을 유지하는 데 필수적이며, 이는 일관된 품질과 성능을 갖춘 반도체 장치의 대용량 생산에 매우 중요합니다. 프로세스 제어 기능 외에도, 0010-53618 원자로는 높은 생산성과 다용성을 위해 설계되었습니다. 소형 "웨이퍼 '크기 에서 대형" 패널' 에 이르기 까지 여러 가지 반도체 기판 을 처리 할 수 있어서 "반도체 '산업 의 여러 가지 용도 에 적합 하다. 원자로는 또한 열 CVD, 플라즈마 강화 된 CVD, 원자층 증착 (atomic layer deposition) 을 포함한 여러 증착 기술을 수용하여 다양한 박막 물질을 증착 할 수있다. 또한 AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-53618 원자로는 안정성과 가동 시간 최적화에 중점을 두고 설계되었습니다. 고품질 (High-Quality) 재료와 컴포넌트를 사용하여 제작되었으며, 엄격한 테스트와 품질 보증 (Quality Assurance) 프로토콜을 바탕으로 운영 환경에서 장기적인 성능을 보장합니다. 원자로는 또한 손쉬운 유지보수 (maintenance) 를 위해 설계되었으며, 액세스 가능한 구성 요소와 효율적인 서비스 및 문제 해결을 지원하는 직관적인 인터페이스 (interface) 를 갖추고 있습니다. 전반적으로, AMAT 0010-53618 원자로는 반도체 산업을위한 최첨단 솔루션을 나타내며, 정밀도, 균일성, 생산성을 갖춘 박막 증착을위한 고급 기능을 제공합니다. '혁신적인 디자인', '프로세스 제어', '신뢰성' 의 결합으로 반도체 기술의 지속적인 발전과 차세대 전자 기기의 개발을 가능하게 하는 핵심 도구입니다.
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