판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-27983 #293773971

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-27983은 반도체 제작에 사용되는 다양한 박막 및 코팅의 대량 제조를 위해 설계된 CVD (최첨단 화학 증기 증착) 원자로입니다. 원자로 (reactor) 는 첨단 마이크로일렉트로닉스 (microelectronics) 의 생산 과정에서 중요한 요소이며 최첨단 기술 개발에 중요한 역할을합니다. 이 장비는 반도체 산업을위한 혁신적인 솔루션 공급 업체 인 AMAT (AMAT) 에 의해 제조되었습니다. 이 원자로의 설계에는 고효율, 정밀 제어, 뛰어난 성능, 탁월한 균일성, 품질의 박막 (thin film) 증착을 위한 고급 기능과 기술이 통합되어 있습니다. AMAT 0010-27983의 주요 구성 요소에는 반응 챔버, 가스 전달 장비, 온도 조절 시스템 (temper control system) 및 진공 장치 (vacuum unit) 가 포함되며, 모두 증착 과정을위한 통제 된 환경을 만들기 위해 조화롭게 작동합니다. 반응 챔버 (reaction chamber) 는 얇은 피막을 기판에 침전시키기 위해 화학 반응이 일어나는 원자로의 중요한 부분이다. 고온과 부식 성 화학 물질에 견딜 수 있도록 설계되어 증착 과정의 안정성 (stability) 과 신뢰성을 보장합니다. 방에는 석영 (quartz) 또는 세라믹 소재가 장착되어 있어 우수한 열 단열과 화학 공격에 대한 내성을 제공합니다. 원자로의 가스 전달 기계 (gas delivery machine) 는 반응 챔버로 전구체 가스의 흐름을 제어하는 데 중요한 역할을합니다. 이 공구는 질량 흐름 컨트롤러 (Mass Flow Controller), 가스 라인 (Gas Line) 및 가스의 흐름 속도를 정확하게 조절하여 원하는 필름 특성을 달성하는 밸브로 구성됩니다. "가스 '배달 자산 은 오염 을 방지 하고" 필름' 의 질 을 일관성 있게 유지 하기 위한 높은 순도 와 신뢰성 을 위하여 설계 되었다. APPLIED MATERIALS 0010-27983 원자로의 온도 제어 모델은 증착 과정 전반에 걸쳐 균일하고 정확한 온도 프로파일을 유지하도록 설계되었습니다. 이 장비는 박막의 성장 동역학 (growth kinetics) 을 제어하고 원하는 결정질 (crystalline structure) 과 특성을 달성하는 데 중요합니다. 온도 조절 시스템에는 여러 온도 센서, 히터, 냉각 메커니즘이 장착되어 있어, 정확한 온도 조절 및 안정성을 제공합니다. 원자로의 진공 단위는 반응실 내부에서 통제된 환경 (control environment) 을 만들고 유지하는 데 필수적이다. 약실을 저압 수준으로 대피시키고, 불순물을 제거하고, 퇴적 과정에서 원치 않는 반응을 방지합니다. 진공기는 고성능 펌프, 압력 게이지, 밸브를 장착하여 최적의 필름 증착에 필요한 진공 수준을 달성하고 유지합니다. 전반적으로, 0010-27983 원자로는 반도체 제조에서 박막을 퇴적시키는 매우 정교하고 신뢰할 수있는 도구입니다. 첨단 설계, 정밀 제어 시스템, 고품질 구성요소 등은 탁월한 성능과 안정성을 갖춘 첨단 (최첨단) 장치를 생산하고자 하는 주요 반도체 제조업체에 필수적인 자산입니다.