판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-13879 #293640053
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AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-13879는 반도체 제조를위한 고급 에칭 및 증착 프로세스에 사용되는 원자로입니다. 평행판 원자로 (parallel plate reactor) 로, 메모리 칩 및 기타 반도체 장치 생산에 자주 사용되는 원자로 유형입니다. 병렬 판 원자로로서, AMAT 0010-13879는 2 개의 병렬 전극을 사용하여 증착 및 에칭 공정을 고도로 제어 할 수 있습니다. 일정 거리 의 간격 을 두어, 두 판 을 따로 제어 할 수 있다. 이러 한 형태 의 원자로 는 "플레이트 '사이 에 하전 된 입자" 빔' 을 통과 시켜서 작용 하는데, 거기서 "빔 '은" 이온' 의 "플라즈마 '로 분해 된다. 이렇게 하면 위 "플레이트 '위 에 있는 재료 를 증착 할 수 있고, 아래" 플레이트' 를 기판 으로 사용 하고, 아래 판 에 있는 재료 를 식각 할 수 있다. 이것 은 "오퍼레이터 '에게 증착 되거나 식각 되는 물질 의 모양, 크기, 조성 을 정확 하게 제어 할 수 있는 능력 을 준다. 응용 재료 0010-13879는 녹는점이 낮고 쉽게 에칭되는 재료 (예: 실리콘, 갈륨 비소) 와 함께 사용하도록 설계되었습니다. 원자로의 전자 빔 (electron beam) 은 큰 에너지 확산을 가지도록 설계되어, 정확한 에칭 및 증착 공정 (etching and deposition process) 과 공정 제어의 균일성 증가 (unifority) 를 가능하게한다. 또한, "플라즈마 '로 인한 손상 을" 플레이트' 사이 에 통과 시키기 위하여 아랫판 을 냉각 한다. 이 냉각장치 (cooling system) 는 평행판 (parallel plate reactor) 의 최고 효율성 작동을 가능하게 하며, 이 연산자는 과열 또는 과열 (overload) 을 두려워하지 않고 높은 전력 수준을 활용할 수 있습니다. 전반적으로 0010-13879는 반도체 생산에 사용하도록 설계된 고급 병렬 판 원자로입니다. 냉각 장치 (cooling system) 와 결합된 증착 (deposition) 과 식각 (etching) 프로세스에 대한 정확한 제어는 메모리 칩 및 기타 고급 반도체 장치를 만드는 데 이상적인 선택입니다.
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