판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09750 #119691

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750은 고급 저온 공정을 위해 설계된 다재다능한 고성능 PVD (Physical Vapor Deposition) 원자로입니다. AMAT 0010-09750은 단일 웨이퍼 HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputter) 도구이며 다중 레이어 증착 시퀀스에 적합한 유연한 플랫폼입니다. 이 장비는 독점 클러스터 소스 형상과 실시간 0-15KW 전원 제어를 사용하여 높은 속도와 균일 한 레이어 두께 (UTL) 를 달성합니다. 이 시스템은 최대 5 개의 독립 프로세스 영역이있는 Multi-Facing Magnetron Cluster 소스를 갖추고 있으며, 단일 대상 증착 및 이중 대상 e-빔 용융과 같은 다른 작업을 허용합니다. 이를 통해 다양한 플라즈마 스퍼터링 기술 (Plasma Sputtering Technique) 을 사용할 수 있으며, 고급 유전체 및 초고성능 코팅과 같은 광범위한 응용 분야에 적합합니다. 13 인치 탑로드 챔버는 한 번의 실행에서 최대 6 개의 6 인치 웨이퍼를 수용 할 수 있으며 태양 광, MEMS 및 LED 제품과 호환됩니다. APPLIED MATERIALS 0010-09750의 고급 온도 제어 장치 (advanced temperature control unit) 를 사용하면 기판 온도 및 공정 매개변수의 정확한 조절이 가능합니다. 프로세스 챔버 대피 및 효율적인 염기압 제어에 2 개의 다른 펌프 (터보 펌프 및 2 단계 드라이 펌프) 가 사용됩니다. 기계는 -90 ° C ~ + 150 ° C 사이의 온도에서 작동하여 다양한 공정 주기 시간을 허용하며, 다중 영역 히터 구성은 기판 온도를 정확하게 관리합니다. 이 도구에는 레시피 작업을 생성, 실행 및 수정하는 통합 읽기/쓰기 기능이 있습니다. 전문 레시피를 손쉽게 저장, 검색하여 유연성을 극대화할 수 있습니다. 사용자 인터페이스 호스트 컴퓨터 (User Interface Host Computer) 는 운영자에게 에셋을 완벽하게 제어하여 프로세스 매개변수를 쉽게 모니터링하고 조정할 수 있도록 합니다. 활성 현장 부식 분석 소프트웨어는 모델의 일부로 제공되며, 신속한 현장 분석을 제공합니다. 이 장비는 빠른 증착률, 프로세스 매개변수 및 다중 계층 증착 시퀀스 (multi-layer deposition sequence) 를 정확하게 제어해야 하는 고객에게 적합한 선택입니다.