판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #9026398

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416 원자로는 반도체 제작 공정을 위해 설계된 고급 장비입니다. 이 원자로는 고품질, 결함이 없는 웨이퍼 및 장치를 만드는 데 필요한 기능과 매개변수를 제공합니다. 원자로에는 ICP (inductively coupled plasma) 소스 및 RTA (rapid thermal annealing) 시스템과 같은 많은 고급 구성 요소가 포함되어 있습니다. 원자로 내에 포함 된 ICP 소스는 에칭, 폴리 실리콘 증착, 도펀트 임플란테이션과 같은 고급 프로세스를 허용합니다. 이 특권 된 전기 에너지원은 다양한 기판 재료에서 표면 처리를 가능하게합니다. 이러한 표면 처리는 반도체 제조 공정에서 매우 중요합니다. ICP 소스는 또한 에칭 목적으로 반응성 및 비활성 종을 생성 할 수있다. 이를 통해 디바이스 구성 프로세스를 세밀하게 조정할 수 있습니다. 또한, ICP 소스와 전원 공급 장치는 AI 지원 냉각 시스템으로 잘 보호되어 반응로의 온도가 일관되게 유지됩니다. RTA 장비는 AMAT 0010-09416 원자로의 중요한 특징입니다. 이 시스템은 높은 처리량과 낮은 열 예산 (thermal budget) 을 제공합니다. 즉, 칩이 줄어들고 프로세스 복잡성이 증가하면 RTA 장치는 여전히 다양한 응용 프로그램과 기능을 처리 할 수 있습니다. RTA 머신은 또한 회복 가열 (recuperative heating) 을 포함한 고급 기능을 제공하는데, 이를 통해 원자로가 더 빨리 웨이퍼를 가열하여 프로세스가 짧은 시간 안에 완료 할 수 있습니다. ICP 소스 및 RTA 시스템 외에도 APPLIED MATERIALS 0010-09416 원자로에는 여러 가지 다른 기능이 포함되어 있습니다. 여기에는 난방 및 냉각 도구, 진공 조임 공정 챔버, 고정밀 가스 전달 자산 및 기타 고급 부품이 포함됩니다. 이와 함께, 이러한 모든 기능을 통해 원자로는 낮은 결함률을 달성하면서 에피 택시 성장, GaAs 증착 등을 처리 할 수 있습니다. 이것은 다양한 개별 응용 프로그램에 적합한 매우 정확한 구조를 허용합니다. 마지막으로, 직관적인 사용자 친화적 소프트웨어 인터페이스로 원자로 (reactor) 를 제어하여 효율적인 프로세스 제어 및 자동화를 보장합니다. 전반적으로, AMAT의 0010-09416 원자로는 반도체 제작 프로세스에 사용되는 고급 장비입니다. 원자로에는 ICP 소스 (ICP source) 및 RTA 시스템 (RTA systems) 과 같은 여러 가지 고급 구성 요소가 포함되어 있으며, 이를 통해 다양한 개별 응용 프로그램에 대한 매우 정확한 구조를 처리 할 수 있습니다. 이 원자로는 직관적인 사용자 친화적 소프트웨어 인터페이스 (software interface) 에 의해 제어되어 효율적인 프로세스 제어 및 자동화를 보장합니다. 또한 AI 지원 냉각 시스템으로 잘 보호되어 원자로 전체에 일관된 온도를 보장합니다.