판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-06222 #293721447

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-06222는 반도체 및 디스플레이 산업의 주요 회사 인 AMAT Inc.에서 제조 한 최첨단 화학 증기 증착 (CVD) 원자로 장비입니다. 이 첨단 원자로 (Advanced Reactor) 는 집적회로, 태양전지 및 기타 전자 기기에 사용되는 박막 (Thin Film) 재료를 생산하기 위한 대용량 제조 공정의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. AMAT 0010-06222 원자로는 다중 챔버 구성의 수직 설계를 통해 순차적 증착 공정 (sequential deposition process) 과 필름 두께, 균일성 및 조성을 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 시스템은 고급 프로세스 제어 (process control) 기능과 자동화 기능을 갖추고 있어 반도체 제작 프로세스에서 높은 생산성, 생산성, 신뢰성을 보장합니다. APPLIED MATERIALS 0010-06222 원자로의 주요 구성 요소 중 하나는 진공 챔버 (vacuum chamber) 로, 박막 재료의 증착을위한 통제 된 환경을 제공합니다. 진공 장치 (vacuum unit) 는 챔버에서 공기 및 기타 오염 물질을 제거 할 수 있으며, 고품질 필름 증착 과정에 필수적인 깨끗하고 안정적인 환경을 만듭니다. 원자로 는 증착 과정 에 사용 되는 전구체 "가스 '와 반송파" 가스' 를 도입 하기 위하여 여러 개 의 "가스 '입구" 포트' 를 갖추고 있다. 실리콘 산화물 (silicon oxide) 이나 질화물 증착 (nitride deposition) 에 대한 실리콘 전구체 (silicon precursor) 와 같은 전구체 가스가 챔버로 전달되고 반응하여 기질 표면에 얇은 필름을 형성합니다. 질소 나 "아르곤 '과 같은 운반체" 가스' 는 전구체 "가스 '를 수송 하고" 가스' 유량 을 조절 하여 최적 의 "필름 '형성 을 한다. 0010-06222 원자로는 또한 증착 과정에서 기질을 가열하고 식히는 온도 조절 기계를 특징으로합니다. 정밀한 온도 조절은 박막 재료의 성장 운동학을 제어하고 원하는 필름 특성 (예: 두께, 결정성, 스트레스) 을 달성하는 데 필수적입니다. 이 도구는 또한 PECVD (Plasma-Enhanced CVD) 공정의 플라즈마 소스를 포함 할 수 있으며, 이는 필름 균일성을 향상시키고 퇴적 된 필름의 결함 밀도를 줄일 수 있습니다. 전반적으로, AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-06222 원자로는 높은 정확도와 효율성을 가진 고급 박막 재료를 생산하려는 반도체 제조업체를 위해 매우 다양하고 신뢰할 수있는 도구입니다. 공정 제어 (process control), 자동화 (automation), 다중 챔버 (multi-chamber) 설계 등의 고급 기능을 통해 최신 반도체 제작 프로세스의 까다로운 요구 사항에 적합합니다. 결론적으로, AMAT 0010-06222 원자로는 CVD 기술의 상당한 발전을 대표하며, 광범위한 전자 응용 분야에 대한 고성능 박막 (Thin Film) 재료를 달성하려는 반도체 제조업체의 귀중한 자산입니다. 혁신적인 디자인, 고급 기능, 탁월한 성능으로 인해 반도체 업계의 대용량 제조 공정이 가장 많이 선택됩니다 (영문).