판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03843R #9270795

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843R은 반도체 제조 및 증착 응용 분야에 사용하기 위해 개발 된 원자로입니다. 원자로는 고급 반도체 소자의 생산에 필요한 고품질 에치 (etch) 및 증착 (deposition) 프로세스를 제공하도록 설계되었습니다. 고출력 진공 (high-powered vacuum) 의 조합과 다양한 가스 분사 기능을 활용하여 에치 (etch) 및 증착 매개변수를 정확하게 제어합니다. AMAT 0010-03843R 원자로는 스테인리스 스틸 진공 챔버 선박 (stainless steel vacuum chamber vessel) 으로 구성되어 있으며, 관측 창을 통해 볼 수 있습니다. 챔버에는 밀봉제, 가스 및 펌프 연결을위한 많은 포트가 장착되어 있습니다. 원자로 내부에는 상단과 하단에 위치한 2 개의 평면 방패 (Planar Shields) 가 장착되어 있습니다. 이 방패는 공정 중에 모든 유출 및 입자 소스가 원자로에 들어가지 못하도록 설계되었습니다. 응용 재료 0010-03843R 원자로는 일련의 외부 고전압 전원 공급 장치로 구동됩니다. 이러한 전원 공급 장치는 원자로의 챔버 컨트롤러 (Chamber Controller) 에 공급되는데, 이는 원하는 프로세스 요구에 따라 두 평면 차폐 (Planar Shields) 사이의 전압에 따라 다릅니다. 고출력 격리 스위칭 밸브 (set of high-power isolated switching valv) 를 사용하면 원자로가 배기를 주입하고 가스를 챔버에 처리 할 수 있습니다. 또한, 원자로는 다양한 환기 및 배기 연결을 통해 챔버 밖으로 배기 및 폐기물 입자를 순환하도록 설계되었습니다. 0010-03843R 원자로 (0010-03843R Reactor) 에는 높은 수준의 정확성과 효율성으로 작동 할 수있는 다양한 기능이 장착되어 있습니다. 특히, 프로세스 레이어에서 부분 또는 전체 에치를 정확하게 감지 할 수있는 동적 엔드 포인트 (dynamic end point) 감지 장비가 특징입니다. 이 시스템은 또한 원자로가 챔버 내에 남은 입자의 존재를 감지 할 수있다. 또한, 제어 장치는 비선형 피드백 (non-linear feedback) 및 피드 포워드 (feed-forward) 알고리즘 세트를 구현하여 원자로가 온도, 압력, 가스 흐름 속도 등의 매개변수에 따라 프로세스 성능을 최적화 할 수 있습니다. 결론적으로, AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843R은 고급 반도체 장치 생산에서 다양한 에치 및 증착 공정 (etch and deposition process) 에 이르기까지 다양한 응용 분야를 위해 설계된 첨단 첨단 기술 원자로입니다. 견고한 설계, 정확한 제어기 (Control Machine), 동적 종단점 감지 도구 (Dynamic End Point Detection Tool) 를 통해 높은 수준의 효율성과 정확성으로 높은 품질의 결과를 얻을 수 있습니다.