판매용 중고 AIXTRON VP508GFR #9115997

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제조사
AIXTRON
모델
VP508GFR
ID: 9115997
SiC CVD Reactor Includes: Spare parts Graphite kit parts Full OEM documentation 2001 vintage.
AIXTRON VP508GFR은 AIXTRON의 GaN-on-Film 원자로입니다. 다양한 기판에 결함이 없고, 고효율 세미폴라, 비폴라 GaN 레이어를 만들 수 있습니다. 원자로는 고주파 전자 사이클로트론 공명 (ECR) 플라스마를 사용하여 4 인치, 6 인치 또는 8 인치 INP, Si 또는 GaAs 기판에서 고품질 GaN 에피 택시 층을 성장시킵니다. 원자로는 또한 최대 1000 ° C의 온도에 도달 할 수있는 가열 단계 (heated stage) 를 가지며, 다층 구조 성장과 재결정 옵션에 사용될 수있다. VP508GFR 은 사용이 간편하며, 사용자에게 친숙한 소프트웨어 제어 장비 구성 요소로 다양한 프로세스 매개변수 (process parameter) 를 쉽게 설정할 수 있습니다. 또한, 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스는 모든 표준 프로세스 매개변수에 대한 레시피 생성을 자동화합니다. AIXTRON VP508GFR은 완전하게 플랜지 처리실을 사용하여 프로세스 기능을 최대화합니다. 원자로 (Reactor) 는 여러 가지 혁신적인 기능으로 인해 시장에서 가장 다양하고 강력한 원자로 (Reactor) 중 하나입니다. 여기에는 에피 택시 (epitaxy) 의 다른 단계에 서로 다른 고귀한 기체 (noble gase) 를 사용할 수있는 2 개의 통합 효능 세포, 증착 속도를 가속화하는 고주파 전기장, 공정 기체의 정확한 제어 및 균일성을 보장하는 자동 가스 흐름 시스템 (gas flow system) 이 포함됩니다. VP508GFR 은 (는) 정확하고 일관되게 작동할 수 있도록 여러 가스의 공급 및 안전 하위 시스템을 갖추고 있습니다. 가스 배달은 폐쇄 루프 (closed-loop) 질량 흐름 컨트롤러 (mass flow controller) 에 의해 관리되며, 안전에는 문제의 경우 장치를 종료할 수있는 냉각 및 압력 모니터링 시스템이 모두 포함됩니다. 원자로 (Reactor) 는 불순물이 적은 수준뿐만 아니라 뛰어난 결정 성과 광학 특성을 가진 결함이없는 다층 GaN 필름을 만들 수 있습니다. 고효율, 비극성 및 세미폴라 LED를 생성하는 데 사용할 수 있습니다. AIXTRON VP508GFR (AIXTRON VP508GFR) 은 높은 유연성과 효율성으로 인해 연구 및 제품 개발에 이상적인 기계입니다.
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