판매용 중고 AIXTRON Tricent #9396754

AIXTRON Tricent는 질화물 기반 재료의 증착을 위해 특별히 설계된 3 전극 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. Tricent는 질화 알루미늄, 질화 갈륨, 질화 인듐 갈륨 (indium gallium nitride) 과 같은 휘발성 금속-질화물 화합물의 분해에 의해 질화물 층을 침전하도록 설계되었습니다. 플라즈마를 만드는 데 2 개의 전극이 사용되고 DC 바이어스를 제어하는 보조 전극이 사용되는 평면 형 RF/DC 구동 공정을 사용합니다. 이 구성은 플라즈마 생산량 증가로 인한 프로세스 성능을 향상시킵니다. DC 바이어스는 열화 속도를 높여 증착률 (deposition rate) 을 높입니다. AIXTRON Tricent는 NH3, GeH4 및 silane을 포함한 다른 질화물 공정 가스로 작동 할 수 있습니다. 이 원자로는 소형 원자로 설계를 고려하여 높은 증착율을 달성 할 수 있습니다. 공정 가스 (Process Gass) 및/또는 기판 온도 (예: 두꺼운 레이어 증착) 를 신속하게 전환하는 애플리케이션에 적합합니다. 트리센트 (Tricent) 는 또한 즉석 기판 온도 및 가스 제어를 제공하여 실행 중 프로세스를 모니터링하고 최적화 할 수 있습니다. AIXTRON Tricent는 자동화된 프로세스 최적화 기능을 사용하여 프로세스 매개 변수를 신속하게 조정할 수 있습니다. 이렇게 하면, 새로운 물질적 "시스템 '이나 공정 을 처리 할 때, 원자로 를 작동 시키는 방법 을 더 쉽게 배우고, 가동 중지 시간 을 최소화 할 수 있다. 또한, 사용자는 피드백 루프 (feedback loop) 와 진단 (diagnostics) 을 사용하여 프로세스를 모니터링하고 일관된 증착률을 유지하는 고급 지능형 프로세스 제어 시스템을 활용할 수 있습니다. 마지막으로, Tricent에는 쉽게 유지 및 청소 할 수있는 스테인리스 스틸 하우징이 있습니다. 원자로 내부는 기판에 의해 점유되지 않은 모든 표면 영역 (surface area) 으로 파고들어, 의도적으로 반응물에 노출되지 않은 표면의 증착을 억제합니다. 결과적으로 표면 품질이 향상되고 증착률이 높아지고, 안정성과 재생성이 향상됩니다.