판매용 중고 AIXTRON LYNX3 #9206615

AIXTRON LYNX3는 태양 전지, 마이크로 LED, 유연한 디스플레이 및 반도체 메모리 장치와 같은 마이크로 전자 및 광전자 응용 분야에서 박막 증착을 위해 설계된 CVD (Advanced Chemical Vapour Deposition) 원자로입니다. 뛰어난 균일성 (unifority) 과 뛰어난 측면 벽 커버리지, 복잡한 구조물에 대한 뛰어난 단계 커버리지를 제공합니다. LYNX3는 콜드 월 (Cold Wall) 원자로 기술을 사용하여 증착실의 온도 변화를 크게 줄입니다. 이 기술은 원치 않는 온도 변동을 제거하고 일관된 결과를 보장합니다. AIXTRON LYNX3 원자로에는 넓은 지역에 균일 한 두께의 필름 증착을 위해 설계된 3 개의 목으로 된 수직 쇼 헤드 (vertical showerhead) 가 장착되어 있습니다. 8 인치에서 24 인치 사이의 다양한 챔버 크기로 제공되며, 대용량 생산 기능과 중량 연구 및 개발 기능을 모두 제공합니다. 원자로 (Reactor) 에는 고급 안전 (Safety) 기능과 여러 공정 제어 기능이 장착되어 있어 상용 및 연구 응용프로그램에 이상적입니다. LYNX3에는 MGIS (Multi-Gas Injection System) 가 장착되어 있어 사용자가 최적의 프로세스 제어를 위해 반응물 유량을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한, 원자로에는 평평한 웨이퍼에 걸친 필름의 균일성 및 MEMS 및 고급 유전층 (advanced dielectric layer) 과 같은 물체의 측면벽뿐만 아니라 CDN (convergent-divergent nozzle) 이 장착되어 있습니다. 이 시스템은 또한 금속화 된 금속 화 층에서 구리 증착을 가능하게하도록 설계된 FWI (Front Wall Injection) 를 지원합니다. AIXTRON LYNX3 원자로에는 고급 전력/온도 조절 시스템 (Power and Temperature Control System) 이 장착되어 있어 프로세스 매개변수를 정확하고 정확하게 제어할 수 있으며 증착 과정을 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 광학 샘플 보기를 통해 사용자는 증착 필름의 품질을 평가할 수 있습니다. 공정 모니터링 소프트웨어 (Process Monitoring Software) 패키지도 지원합니다. 이를 통해 사용자는 프로세스 문제를 신속하게 파악하고 해결할 수 있습니다. 결론적으로 LYNX3는 마이크로 일렉트로닉스 (microelectronics) 와 광전자 산업 (optoelectronic industries) 의 까다로운 요구 사항과 응용 프로그램을 충족하도록 설계된 고급 CVD 원자로입니다. MGIS (Multi-Gas Injection System) 및 FWI (Front Wall Injection) 와 같은 고급 기능이 장착되어 있으며, 플랫 웨이퍼뿐만 아니라 물체의 옆벽에도 필름의 균일성이 있습니다. 원자로는 공정 제어 (Process Control) 및 모니터링 (Monitor) 기능도 갖추고 있으며, 생산 및 연구 개발 목적에 이상적인 선택입니다.