판매용 중고 AIXTRON G4 #9222130

AIXTRON G4는 AIXTRON의 G-Series Reactor 제품군의 구성원입니다. 저압 화학 증기 증착 (LPCVD) 원자로이며, 특히 결정질 및 반도체 재료 성장을 위해 설계되었습니다. 이 컴퓨터 제어 원자로 (computer-controlled reactor) 는 향상된 구성 요소 설계를 특징으로하며, 더 높은 성능과 더 효율적인 작동이 가능합니다. 광범위한 성장 과정을 다루면서 다른 시스템과 비교하여 더 나은 균일성, 반복성, 재현성을 제공합니다 (영문). AIXTRON G 4는 폐쇄 된 전자 레인지 챔버 (microwave chamber) 를 사용하여 다른 웨이퍼 재료에서 금속 및 비금속 유도체를 증착 할 수 있습니다. 여기에는 2 개의 ECR (electron cyclotron resonance) 플라즈마 소스가 장착되어 있으며, 조절 가능한 전력 수준과 광범위한 압력 수준을 제공합니다. "마이크로 '파 장비 는 독립적 으로 조종 되어" 가스' 의 유속 이 작지만 정확 하게 변화 된다. AIXTRON CleanScan II 비디오 시스템도 포함되어 있으며 실시간 현장 모니터링이 가능합니다. 원자로는 단일 웨이퍼 및 로드 록 교환 장치를 지원합니다. 이 기계는 단면 및 양면 웨이퍼에 대한 프로세스의 균일성과 반복성을 제공하도록 설계되었습니다. 또한 "웨이퍼 '를 적재 하는 장치 는 자동적 으로 조절 되고 조정 되므로, 안전 하고 신뢰 할 수 있는 증착 환경 이 된다. G4 역시 온도와 압력과 같은 필요한 매개변수를 조정하면 효율성이 높다. & # 160; & # 160; 정밀한 컨트롤을 통해 정밀한 인터 레이어 (interlayer) 형성으로 더 높은 성능과 균일성을 얻을 수 있습니다. 방에는 스테인리스 스틸 벨로우 (Stainless Steel Bellows) 가 있으며, 약실의 균일성을 낮은 기계적 스트레스로 개선하여 과열을 방지하도록 설계되었습니다. 이 도구는 또한 단일 웨이퍼에서 반복 가능한 패턴 (repeatable pattern) 의 가능성을 균일하게 보장합니다. G4 는 "반도체 '와" 마이크로일렉트로닉스' 공업 에 있어서 매우 다양 한 재료 를 가공 하는 데 이상적 인 도구 이다. 정확하고 정확한 작동으로 실리콘 박막 (silicon thin film), 실리콘 온 인슐레이터 (silicon-on-insulator) 장치 및 변형된 실리콘과 같은 반도체 장치를 최적화하는 데 이상적입니다.