판매용 중고 AIXTRON G3 #9187985

AIXTRON G3는 킬 기반 독일 회사 인 AIXTRON이 개발 한 원자로 모델입니다. III-V 화합물 반도체 응용을위한 갈륨 비소 (GaAs) 기반 물질을 성장시키는 데 사용되는 금속 유기 화학 증기 증착 (MOCVD) 원자로입니다. AIXTRON G 3는 고품질 에피 택시 및 균일성을 달성 할 수 있으며, 이를 통해 레이저, 발광 다이오드 (LED) 및 광 검출기와 같은 옵토 전자 부품을 생산할 수 있습니다. G3 는 신뢰성 있는 작동을 보장하는 여러 가지 안전 및 효율성 기능으로 설계되었습니다. 첫째, G 3에는 에피 택시 필름 형성 문제를 방지하는 캐빈 및 가스 흐름 최적화를위한 "베이크 인 (Bake-in)" 장비가 있습니다. 둘째, 1 단계 VAR 셔터는 원치 않는 에치 종 침입을 방지합니다. 셋째, 분사 발전기는 전도 표면의 과잉 침식을 방지하고 성장 중 기판 온도를 최적으로 허용합니다. 마지막으로, 안전 셔터를 사용하여 오염 물질이 반응 실에 들어가는 것을 막을 수 있습니다. AIXTRON G3 (AIXTRON G3) 는 또한 성장 챔버에 입자가 들어갈 위험을 최소화하는 측면 입구 입구 시스템을 갖추고 있습니다. 또한, 석영 창은 성장 과정에서 쉽게 관찰 할 수 있습니다. 자동 게이트 제어 (Automatic Gate Control), 챔버 과압 보호 (Chamber Over-Pressure Protection), 능률적인 기판 전송 로봇 등의 기능을 통해 최적의 프로세스를 보장하고 문제의 위험을 줄일 수 있습니다. AIXTRON G 3은 압력 균형 제어 장치 (pressure-balance control unit) 를 사용하여 온도를 조절하여 성장 속도, 레이어 두께 및 위상을 철저히 제어 할 수 있습니다. 이것은 균일성과 반복 가능한 레이어 성장을 보장하는 데 도움이됩니다. 활성 냉각기는 epitaxy에 필요한 정확한 온도를 유지하는 데 도움이됩니다. 또한, 새로운 노즐 디자인은 심지어 성장을 허용하고 필름의 균질성을 향상시킵니다. G3는 수년 동안 손쉬운 유지 보수 및 안정적인 운영을 위해 설계되었습니다. 견고한 모듈식 설계를 통해 모든 부품을 손쉽게 교체할 수 있으며, 다운타임을 최소화할 수 있습니다. G 3에는 가스 산화 및 공정 후 청소가 가능한 배기 도구가 장착되어 있습니다. 또한 견고한 접촉 냉각 에셋 (Contact Cooling Asset) 과 석영 유리 물개 (Quartz Glass Seal) 를 사용하여 기판에 안전하고 누출되지 않은 연결을 보장합니다. AIXTRON G3는 다양한 III-V 화합물 반도체 재료를위한 효율적이고 신뢰할 수있는 원자로 솔루션입니다. 안전 (Safety) 기능, 기판 전송 로봇, 제어 모델 및 고급 냉각 장비의 조합으로 엄격한 프로세스 제어 및 안정적인 작동이 보장됩니다. 고품질· 저결함 제품은 다양한 고수율 반도체 생산에 적합하다.