판매용 중고 AIXTRON G3 ICHT #9296290

AIXTRON G3 ICHT는 고급 반도체 제조에 사용되는 주요 증기 증착 원자로입니다. 나노 구조의 반도체 재료 및 구조물의 생산을 위해 안정적이고, 정확하고, 높은 생산성 성능을 제공하도록 설계되었습니다. MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 및 두꺼운 필름 증착에 널리 사용됩니다. 이 고급 CVD 원자로 장비는 드라이버, 챔버, 전원 공급 장치 및 냉각 시스템의 4 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 운전자 는 원자로 의 핵심 이며, 증착 과정 을 조절 하는 데 사용 된다. PC 제어 "인터페이스" 와 DC 드라이버의 두 부분으로 구성됩니다. 인터페이스는 프로세스 압력, 증착 속도 등과 같은 프로세스 매개변수를 제어하는 데 사용됩니다. DC 드라이버는 전기 화학적으로 활성화 된 증착원 (deposition source) 을 구동하는 데 사용되며, 초저온에서 매우 미세한 증착이 가능합니다. 원자로 챔버는 스테인레스 스틸 (stainless steel) 로 만들어졌으며 공정을 볼 수있는 테플론 (Teflon) 과 석영 창문이 장착되어 있습니다. 상단과 하단에는 2 개의 직사각형 (rectangular) 오프닝이 있으며, 공정 가스가 가열되고 후속 반응에 적합합니다. 상단의 광학 창 (optical window) 은 또한 프로세스를 제어하고 재료의 성장을 모니터링하는 데 효율성을 보장합니다. DC 전원 공급 장치 (DC Power Supply) 는 드라이버 및 소스에 전원을 공급하여 증착 중 전압을 확인합니다. 공정의 온도는 냉각 트레이 (cooling tray), 수냉식 벽 (water cooled wall) 및 온도 센서 (temperature sensor) 로 구성된 냉각 장치에 의해 모니터링되고 제어됩니다. 이 냉각기를 사용하면 강착 중 온도를 매우 정확하게 제어 할 수 있습니다. G3 ICHT는 다재다능하고, 안정적이며, 정확한 CVD 원자로로, 균일성과 두께가 뛰어난 고품질 반도체 재료를 생산할 수 있습니다. 견고한 설계로 고품질 필름의 빠른 증착이 가능하며 프로세스 설계 측면에서 유연성 (Flexibility) 을 제공하여 초저온에서도 광범위한 재료를 증착할 수 있습니다 (영문). 게다가, 이 도구의 견고한 상태 신뢰성 및 미세한 프로세스 제어는 기존 CVD 프로세스와 관련된 문제를 극복 할 수 있습니다.