판매용 중고 AIXTRON G3 2600 #9150530

AIXTRON G3 2600은 고급 재료 제작을 위해 특별히 설계된 원자로입니다. 현재 시장에서 가장 강력한 원자로 중 하나이며, 고성능 (HPP), 다용도 (다용도), 정밀성 (Precision Performance) 의 조합을 제공합니다. G3 2600에는 300-mm 공정 챔버가 있으며, 제어 가능하고 균일 한 온도를 제공하여 최적의 공정 결과를 생성합니다. 실리콘, Indium, Aluminum-Gallium-Arsenide (AlGaAs), Silicon-Germanium (SiGe) 및 질화 갈륨 (GaN) 과 같은 광범위한 재료를 처리 할 수 있습니다. 또한 산화 (oxidation) 및 증착 (deposition) 을 위해 재료를 증발시키는 기능과 응용에 최적화된 동적 범위의 프로세스 매개변수를 제공합니다. AIXTRON G3 2600 (AIXTRON G3 2600) 에는 다양한 고급 기능이 장착되어 있어 다양한 어플리케이션에 적합합니다. 혁신적인 디자인은 우수한 등각 필름 균일성과 균일 한 균일 한 균일 한 균일 한 박막 도핑 (doping) 을 허용하는 반면, 저열 예산 가스 소스는 전통적인 증착 기법에 비해 높은 수준의 평면 (planarity) 에서 산화물 증착을 가능하게합니다. 또한, 조절 가능한 열 예산은 또한 단일 및 다중 계층 구조에 대한 광범위한 필름 스트레스를 가능하게합니다. 또한 G3 2600 원자로는 프로세스 반전이 있는 고급 배치 제어 (batch control) 소프트웨어를 통해 향상된 자동화 및 프로세스 모니터링을 제공합니다. 이 소프트웨어는 사전 프로그래밍된 프로세스 프로토콜을 용이하게 하며, 운영자가 시스템 매개변수를 빠르고 쉽게 최적화할 수 있도록 합니다. 또한, AIXTRON G3 2600 (AIXTRON G3 2600) 은 모든 환경 규정 및 사고 예방 규정을 충족하도록 설계되었으며, 프로세스 챔버의 자동 연동은 잠재적 인 위험에 대비하여 즉시 프로세스를 중단합니다. 또한, RF 개 스켓 (gasketing) 및 페라이트 믹싱 (ferrite mixing) 과 같은 기능은 필름 오염을 감소/제거하는데 도움이되며, 밀봉된 형상은 에르메틱 처리 환경을 보장합니다. 광범위한 기능을 갖춘 G3 2600 (G3 2600) 은 광범위한 연구 및 산업 응용을위한 이상적인 원자로입니다. 이 제품은 고급 소재 (advanced materials) 의 생산에 대한 정확한 제어를 제공하며, 안정적이고, 효율적이며, 다용도로 사용되므로 모든 고급 소재 (advanced material) 응용 프로그램에 적합합니다.