판매용 중고 AIXTRON Crius II #9375371
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AIXTRON Crius II는 연구 응용 프로그램을위한 MOCVD 증착 장비입니다. 연구자들은 다양한 물질에서 에피 택시 필름 (epitaxial film) 을 재배 할 수있는 중앙 튜브를 갖춘 3 구역, 수평 튜브 원자로입니다. 크리우스 II (Crius II) 는 고급 장치 구조의 개발을 위해 기판 또는 웨이퍼에 박막 (thin film) 의 고품질 에피 택시 성장과 증착을 가능하게하도록 설계되었습니다. 원자로 외부 2 구역은 냉벽 설계 (coldwall design) 를 기반으로하며, 퇴적되는 재료의 성장률 및 질을 제어하기위한 균일 한 온도 조건을 제공합니다. 중앙 구역에는 실제 원자로 챔버 (reactor chamber) 가 있으며, 여기서 원자로 소스 플레이트는 수직으로 장착 된 웨이퍼 또는 기판에 연결됩니다. 원자로는 상부, 중하 및 하부 기반 금속 화학 증기 증착을 위해 최대 4 개의 원자로를 장착 할 수있다. 원자로에는 원자로 소스와 웨이퍼 (wafer) 또는 기판 (기판) 을 정확하게 배치하기 위해 고급 모션 제어 (motion control) 및 제어 시스템이 장착되어 있습니다. AIXTRON 크리우스 II (Crius II) 에는 안정된 물질 성장 및 증착을 위해 3 개 구역 모두에서 정확한 온도를 보장하는 온도 조절 장치가 장착되어 있습니다. Crius II는 반도체, 유전체 및 금속을 포함한 광범위한 재료를 처리 할 수 있으며, 특히 GaAs, InP 또는 GaN과 같은 III-V 및 IV-VI 화합물 반도체의 증착에 적합합니다. 이 기계는 뛰어난 결정 특성과 도펀트 (dopant) 에 대한 엄격한 제어를 갖춘 고품질의 에피 택시 필름을 생산할 수 있습니다. 이러한 기능을 통해 AIXTRON Crius II는 고급 장치 응용 프로그램의 연구 및 개발에 이상적입니다. 크리 우스 2 세 (Crius II) 는 손쉬운 유지 보수 및 운영을 위해 설계되었으며, 연구 목적으로 신뢰할 수 있고 유연한 MOCVD 증착 도구를 찾는 과학자 및 엔지니어에게 이상적입니다. 이 자산은 우수한 서비스 및 지원에 대한 AIXTRON 약속의 지원으로 AIXTRON Crius II가 많은 연구 응용 프로그램에 대한 현명한 선택이되었습니다.
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