판매용 중고 AIXTRON Crius II #9272528

AIXTRON Crius II는 고품질 결정질 반도체 재료 생산을 위해 설계된 DC/RF 강화 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 최첨단 DC/RF 소스, 챔버 치수 (chamber dimensions) 및 고급 프로세스 제어 (process control) 가 장착되어 최고의 재료 품질 표준을 제공 할 수 있습니다. 크리 우스 II (Crius II) 는 AIXTRON 시리즈 전용 에피 택시 원자로의 일부로, 다양한 반도체에 에피 택시 품질을 제공하도록 설계되었습니다. 증착 중 소스와 기판 사이의 직류 (DC) 를 특징으로하는 AIXTRON Crius II는 순도 반도체의 가장 순수한 층을 생성 할 수 있습니다. 또한 RF 생성기로 구동되는 RF (Resonant Frequency) 소스 (RF) 는 레이어의 구조와 구성을 향상시켜 속성을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 크리 우스 II (Crius II) 에는 대형 소스/기판 구성을위한 고용량 회전 영역이있는 대형 소스/기판 구성이 장착되어 있어 균일 한 증착 계층 및 높은 수율을 보장합니다. 이것은 온보드 프로세스 제어 시스템 (On-board Process Control System) 으로 보완되어 증착율, 온도 분포, 산소 농도 등 성장 매개변수에 대한 정확한 제어 권한을 사용자에게 제공합니다. 에피 택시 결정 품질을 더욱 높이기 위해 AIXTRON Crius II는 2 소스, 2 기판 구성을 특징으로하여 여러 소스에서 동시에 증착을 가능하게합니다. 이를 통해 영역 간 증착 너비를 정확하게 제어하고, 재료 품질 및 결정 방향을 최적화할 수 있습니다. Crius II는 최대 1350 ° C의 온도에서 작동 할 수 있으며, 주기 시간은 15 분입니다. AIXTRON Crius II (AIXTRON Crius II) 가 제공하는 정확한 프로세스 제어와 결합하여 정확하고 빠르고 고품질의 에피 택시 증착에 이상적인 선택입니다. 또한 AIXTRON 클라우드 컴퓨팅 인터페이스를 통해 원자로 모니터링 및 제어를 원격으로 수행할 수 있습니다. 전반적으로, Crius II는 고성능 CVD 원자로로, DC/RF 소스와 온보드 프로세스 제어 시스템을 통해 재료 품질을 정확하게 제어하며, 2 소스, 2 기판 구성의 고속 및 빠른 사이클 시간과 연결됩니다. 결정성 반도체 (crystalline semiconductor) 재료 생산에 이상적인 선택으로, 빠르고 고품질 (high quality) 생산 프로세스에 이상적인 선택입니다.