판매용 중고 AIXTRON Crius II #9272514

AIXTRON Crius II는 광범위한 어플리케이션을 위해 효율적이고 정확한 PVD (Physical Vapor Deposition) 프로세스를 제공하도록 설계된 고급 증착 장비입니다. 원자로는 '정지 된 기판' 기술을 사용하여 사용자가 필름 증착 기능을 변경하고 개선 할 수 있습니다. 이 기법 은 가열 된 "페데스탈 '위 에 기질 재료 를 정지 시켜, 특정 한 지역 에 뭉치거나 쌓이지 않고 전체 기판 에 균일 한 증착 을 한다. 크리 우스 II (Crius II) 는 다양한 크기와 모양을 가진 기판을 배치 할 수 있습니다. AIXTRON 크리우스 II (AIXTRON Crius II) 에는 자동화된 기판 처리 시스템이 장착되어 있어 기판의 동작을 조정하고 증착 소스에 대한 기판 정렬을 최적화할 수 있습니다. 이렇게 하면 사용자가 기판 서피스에서 정확하고 제어할 수 있는 두께 변화를 만들 수 있습니다. 또한, 크리 우스 II (Crius II) 는 독특한 아노딕 아크 방전 프로세스를 사용하여 매우 정밀한 증착률을 제공하고 정확한 필름 두께를 만드는 혁신적인 증착 소스를 특징으로합니다. AIXTRON 크리우스 II (AIXTRON Crius II) 의 내부는 고급 공랭식 장치를 갖추고 있으며, 효율적인 열 관리를 보장하며, 증착 과정을 전체 챔버에서 일관된 온도로 유지합니다. 또한, 챔버에는 질소 가스 흐름 연료 분사기 (nitrogen gas-flow fuel injection machine) 가 있어 양질의 증착 공정을 위해 고순도 대기를 만듭니다. 또한 Crius II는 임베디드 PC (내장형 PC) 를 사용하여 원자로 환경에서 데이터를 모니터링, 획득 및 분석하는 고급 진단 도구를 갖추고 있습니다. 따라서 유지 보수 비용을 절감하고 기판 증착 및 코팅 (coating) 품질을 향상시킬 수 있습니다. AIXTRON Crius II는 압력, 온도, 습도를 포함한 환경 매개변수를 모니터링 할 수 있으며, 이는 반복 가능하고 일관된 증착 결과를 보장합니다. Crius II는 다양한 어플리케이션에 적합한 효율적이고 신뢰할 수있는 증착 자산입니다. 정밀 증착율 (Exposition Rate), 균일 한 기판 코팅 기능, 뛰어난 열 관리 및 데이터 획득 시스템 (Data Acquisition System) 을 갖춘 신뢰성이 뛰어난 환경을 제공합니다. 결과적으로, AIXTRON Crius II는 다양한 산업에서 사용되는 고정밀 증착 공정에 이상적인 원자로입니다.