판매용 중고 AIXTRON CRIUS II XL #293757130

AIXTRON CRIUS II XL은 최첨단 반도체 제조를 전형화하며, epitaxial 성장 과정에 대한 매우 다재다능하고 효율적인 원자로로 확립되었습니다. 이 고급 도구는 전자제품 (Electronics) 과 광자산업 (Photonics Industries) 의 광범위한 어플리케이션을 위한 고품질 필름 (Film) 과 나노구조 (Nanosstructure) 를 손쉽게 제작할 수 있도록 설계되었습니다. AIXTRON CRIUS II-XL은 정밀도, 확장성 및 혁신에 중점을 두고 epitaxial 성장 제어, 재료 균일성 및 프로세스 반복성 측면에서 탁월한 성능을 제공합니다. 에피 택셜 성장 공정은 반도체 제조에서 필수적이다. 즉, 특정 전기 및 광학 특성을 갖는 반도체 구조를 만들기 위해 기판에 원자 적으로 얇은 결정질 물질 층의 증착 (deposition) 을 포함하기 때문이다. CRIUS II XL 원자로는 이러한 중요한 프로세스에서 탁월한 결과를 제공하도록 설계되어 뛰어난 순도, 균일성, 구조적 무결성 (structural integrity) 을 가진 초박형 필름을 생산할 수 있습니다. 크리 우스 II-XL (CriUS II-XL) 원자로의 주요 특징 중 하나는 고급 가스 상 증착 기술로, 성장 매개변수 및 재료 특성을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 원자로에는 정밀하게 제어 된 유속 (flow rate) 및 조성물 (compositions) 에서 다양한 전구체 가스를 반응 챔버에 도입 할 수있는 정교한 가스 전달 시스템이 장착되어 있습니다. 기상화학 (gas phase chemistry) 에 대한 이러한 정확한 제어는 맞춤형 특성 및 성능 특성을 가진 복잡한 반도체 물질의 증착을 가능하게한다. AIXTRON CRIUS II XL 원자로는 고급 가스 단계 증착 기능 외에도, 뛰어난 성능에 기여하는 다양한 혁신적인 설계 기능을 통합합니다. 원자로 챔버 (reactor chamber) 는 높은 정도의 열 안정성으로 설계되어, 에피 택시 성장 과정에서 기질 표면에서 균일 한 온도 분포를 보장합니다. 이 열 안정성 (thermal stability) 은 균일 한 필름 두께와 결정 질 (crystal quality) 을 달성하는데 중요한데, 약간의 온도 변화조차도 퇴적 물질의 결함 및 비 균일성을 유발할 수 있기 때문입니다. 또한, AIXTRON CRIUS II-XL 원자로에는 오염 또는 손상 위험이 최소화되면서 기판의 자동 적재 및 언로드가 가능한 고정밀 기판 처리 시스템이 장착되어 있습니다. 이 시스템은 기판의 일관되고 안정적인 처리를 보장하며, 프로세스 반복성 (repeatability) 과 수율 (revield) 을 향상시킵니다. 또한, 원자로에는 온도, 압력, 가스 구성 (Gas Composition) 과 같은 주요 프로세스 매개변수의 실시간 모니터링이 가능한 고급 현장 모니터링 및 제어 시스템이 장착되어 있어, 성장 조건을 정확하게 조정하여 필름 품질 및 속성을 최적화할 수 있습니다. 전반적으로, CRIUS II XL 원자로는 반도체 제조 기술의 상당한 발전을 나타내며, epitaxial 성장 프로세스에 대한 타의 추종을 불허하는 성능, 다양성 및 신뢰성을 제공합니다. CRIUS II-XL 은 최첨단 설계 기능, 정확한 제어 기능, 혁신적인 모니터링 시스템 등을 갖추고 있으며, CRIUS II-XL 을 통해, 반도체 제조업체들은 고급 반도체 자재 및 장치 생산에서 새로운 수준의 품질과 효율성을 얻을 수 있습니다.