판매용 중고 AIXTRON Crius 31x2" #9248204
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ID: 9248204
빈티지: 2008
MOCVD System
CCS IC Reactor for deposition substrates
CSS-Chamber
With flip-top lid
SiC Coated graphite susceptor
(3) Zones tungsten heater
Temperature: 1200°C
Optical access: (6) Optical ports
Outer liner
Heat exchanger
Pyrometer: Temperature calibration
Power supply unit
EBARA A70W Dry vacuum pump
Dual input plenum shower head injector
With cross-flow water cooling
Glove box:
With inert gas flow
(3) Gloves on each side
Pressure control: Over pressure protection
Monitoring systems interface
Maintenance load lock
Gas purification
Circulation and regeneration unit
Sensors: Integrated H2 / O2 / Moisture / Temperature
Moisture level: 1 ppm
Oxygen level: 1 ppm
Vacuum wand
Vacuum system:
(2) Pressure sensors
Throttle valve
Vacuum valves
Check valves
Filter station
Gas blending unit:
Ventilated gas cabinet with active door locks
Gas blending and injection lines
Metal sealed digital mass flow controllers
Input lines: Particle filters
Hydride input lines: Manual valves
Hydrogen and nitrogen carrier gas manifold
Run / vent stack (Hydrides and (2) MOs)
Purge channels
Vacuum cleaner
With closed loop circulation and separate blower unit
Particle trap and double fine filter
Dynamic reactor height adjustment
In-recipe control of reactor height
Computer control system
CONTROL LOGIX Programmable Logic Controller (PLC)
Recipe execution
Recipe manager
Macro definition
Display and print out of data
Remote PC:
Desktop PC
TFT Monitor, 9"
Mouse
Keyboard
Safety system:
Hardwired safety system
Hydrogen detection
MO-G1 Standard metal organic channel:
(2) Cp2Mg/H2
TMAl/H2
N.N./H2
N.N./N2
TEGa/N2
Digital mass flow controller for carrier gas
Digital mass flow controller for pusher line
Pneumatic 4-way valve
Thermostated bath LAUDA RM6 air-cooled with precise temperature control
Digital pressure controller for MO-cylinder
Pneumatic 5-way vent / Run valve
PLC Hardware and system
MO-G1-D Double standard metal organic channel: (2) TMIn
(2) Metal organic sources sharing thermobath
(2) Digital mass flow controllers for carrier gases
(2) Digital mass flow controllers for pusher line
(2) Pneumatic 4-way valves
Thermostated bath LAUDA RM6 air-cooled with precise temperature control
(2) Digital pressure controllers for MO-cylinder (one for each cylinder)
(2) AIXTRON Pneumatic 5-way vent / Run valves
PLC Hardware and safety system
MO-G2-D Double standard gas channel: (2) NH3
Manual valve
(2) Digital mass flow controllers for hydride gases
(2) Digital mass flow controllers for pusher line
(2) Pneumatic 3-way valve
(2) Pneumatic 5-way vent / Run valves
PLC Hardware and safety system
MO-G1 Plus MO-G3 sharing one bath: (2) TMGa
(2) Digital mass flow controller for carrier gases
(2) Digital mass flow controller for pusher line
Digital mass flow controller for dopant injection
(2) Pneumatic 4-way valve
Thermostated bath lauda RM6 air-cooled with precise temperature control
(2) Digital pressure controller
Pneumatic 5-way vent / Run manifold valve
PLC Hardware and safety system
MO-G5-10M Vacuum lines
MO-G6 Dummy line:
Used for balancing gas flow switching
Digital mass flow controller
Pneumatic 5-way vent / Run valve
PLC Hardware and safety system
N2/H2 Separation of MO stack:
(4) Pneumatic valves and safety system
(2) N2/H2 Mixture units for one run / Vent stack
Digital mass flow controller with valve and safety system
(2) MO-Differential run / Vent pressure balancing
Differential pressure sensor
X-More MFC and needle valve
PID Controller
PLC Hardware and safety system
Process control:
Laser interferometer
In-situ monitoring
Includes:
Susceptor top plate: SiC Coated
QUARTZ Susceptor support
Liner
Thermocouple assembly type C
Optical probe
Probe adapter
O-Ring
Engineers kit
(2) Valves (N2 H2)
Line heating
Susceptor: 2" x 31" x 2"
CT1000 Particole trap
Purification:
AERONEX CE-2500KF Purifier
For NH3 purification
Manual by-pass shut off valve
(2) Manual isolation valves
(2) AERONEX CE-2500KF Purifiers
For N2 and H2
(2) Moisture sensors (H2 N2)
MICHELL PURA Hygrometer
DP Measurement: -120°C
2008 vintage.
AIXTRON Crius 31x2는 연구 및 개발 중심 응용을 위해 설계된 차세대 실리콘 카바이드 에피 택시 원자로입니다. 모듈식 (modular) 및 고도로 구성 가능한 장비로, 저온 에피 택시 (epitaxy) 에서 고온 증가에 이르는 프로세스 유연성을 시간당 최대 500mm2의 속도로 제공합니다. 실리콘, 사파이어, 실리콘 온인슐레이터, 다이아몬드, SiC 등 다양한 기판에서 n- 타입 및 p- 타입 레이어를 모두 확장할 수 있는 기능으로, 차세대 전력 전자 및 광전자 부품 개발을위한 이상적인 고출력 도구입니다. AIXTRON Crius 31x2는 MBE (molecular beam epitaxy) 기술을 사용하며 정확한 가스 전달 속도 및 조성을 허용하는 프로그래밍 가능한 질량 흐름 컨트롤러를 갖추고 있습니다. 이 시스템에는 고출력 필름 성장을 위해 4 개의 전자 빔 건과 11 개의 기판 홀더 위치가 장착되어 있습니다. 또한 빠른 저압 작동을위한 인시 투 (in-situ) 및 엑시 투 (ex-situ) 터보 펌프가있는 통합 진공 펌핑 장치와 정확한 온도 조절을위한 조절 가능한 온도 플랫폼이 포함되어 있습니다. 시스템의 제어 소프트웨어 기능을 사용하면 사용자 친화적 인 레시피 스크립팅과 전체 프로세스 매개변수 최적화 (full process parameter optimization) 를 수행할 수 있습니다. 프로세스 최적화에는 자동 기판 온도 램프, 다른 가스 플럭스 레이트 조합, 성장률 적응이 포함됩니다. 또한 AIXTRON Crius 31x2에는 원격 액세스 모니터링 및 제어를 위한 원격 액세스 옵션이 있습니다. AIXTRON Crius 31x2는 고급 기능과 안정적인 공구 성능을 갖춘 실리콘 카바이드 (silicon carbide) 성장 분야에서 두드러집니다. 원자로 는 모듈 식 "디자인 '을 통해 매우 효율적 이며, 어떤 특정 한 연구 필요 에도 적응 할 수 있다. 이 도구는 반도체 장치 및 부품의 개선 및 테스트에 이상적입니다. AIXTRON Crius 31x2 (AIXTRON Crius 31x2) 는 이미 전력 전자 및 광전자 (optoelectronics) 연구원을위한 강력한 도구로 입증되었으며, 신뢰할 수 있고 다용도 epitaxial reactor를 찾는 연구원들에게 이상적인 선택입니다.
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