판매용 중고 AIXTRON Crius 31x2" #9248204

AIXTRON Crius 31x2"
제조사
AIXTRON
모델
Crius 31x2"
ID: 9248204
빈티지: 2008
MOCVD System CCS IC Reactor for deposition substrates CSS-Chamber With flip-top lid SiC Coated graphite susceptor (3) Zones tungsten heater Temperature: 1200°C Optical access: (6) Optical ports Outer liner Heat exchanger Pyrometer: Temperature calibration Power supply unit EBARA A70W Dry vacuum pump Dual input plenum shower head injector With cross-flow water cooling Glove box: With inert gas flow (3) Gloves on each side Pressure control: Over pressure protection Monitoring systems interface Maintenance load lock Gas purification Circulation and regeneration unit Sensors: Integrated H2 / O2 / Moisture / Temperature Moisture level: 1 ppm Oxygen level: 1 ppm Vacuum wand Vacuum system: (2) Pressure sensors Throttle valve Vacuum valves Check valves Filter station Gas blending unit: Ventilated gas cabinet with active door locks Gas blending and injection lines Metal sealed digital mass flow controllers Input lines: Particle filters Hydride input lines: Manual valves Hydrogen and nitrogen carrier gas manifold Run / vent stack (Hydrides and (2) MOs) Purge channels Vacuum cleaner With closed loop circulation and separate blower unit Particle trap and double fine filter Dynamic reactor height adjustment In-recipe control of reactor height Computer control system CONTROL LOGIX Programmable Logic Controller (PLC) Recipe execution Recipe manager Macro definition Display and print out of data Remote PC: Desktop PC TFT Monitor, 9" Mouse Keyboard Safety system: Hardwired safety system Hydrogen detection MO-G1 Standard metal organic channel: (2) Cp2Mg/H2 TMAl/H2 N.N./H2 N.N./N2 TEGa/N2 Digital mass flow controller for carrier gas Digital mass flow controller for pusher line Pneumatic 4-way valve Thermostated bath LAUDA RM6 air-cooled with precise temperature control Digital pressure controller for MO-cylinder Pneumatic 5-way vent / Run valve PLC Hardware and system MO-G1-D Double standard metal organic channel: (2) TMIn (2) Metal organic sources sharing thermobath (2) Digital mass flow controllers for carrier gases (2) Digital mass flow controllers for pusher line (2) Pneumatic 4-way valves Thermostated bath LAUDA RM6 air-cooled with precise temperature control (2) Digital pressure controllers for MO-cylinder (one for each cylinder) (2) AIXTRON Pneumatic 5-way vent / Run valves PLC Hardware and safety system MO-G2-D Double standard gas channel: (2) NH3 Manual valve (2) Digital mass flow controllers for hydride gases (2) Digital mass flow controllers for pusher line (2) Pneumatic 3-way valve (2) Pneumatic 5-way vent / Run valves PLC Hardware and safety system MO-G1 Plus MO-G3 sharing one bath: (2) TMGa (2) Digital mass flow controller for carrier gases (2) Digital mass flow controller for pusher line Digital mass flow controller for dopant injection (2) Pneumatic 4-way valve Thermostated bath lauda RM6 air-cooled with precise temperature control (2) Digital pressure controller Pneumatic 5-way vent / Run manifold valve PLC Hardware and safety system MO-G5-10M Vacuum lines MO-G6 Dummy line: Used for balancing gas flow switching Digital mass flow controller Pneumatic 5-way vent / Run valve PLC Hardware and safety system N2/H2 Separation of MO stack: (4) Pneumatic valves and safety system (2) N2/H2 Mixture units for one run / Vent stack Digital mass flow controller with valve and safety system (2) MO-Differential run / Vent pressure balancing Differential pressure sensor X-More MFC and needle valve PID Controller PLC Hardware and safety system Process control: Laser interferometer In-situ monitoring Includes: Susceptor top plate: SiC Coated QUARTZ Susceptor support Liner Thermocouple assembly type C Optical probe Probe adapter O-Ring Engineers kit (2) Valves (N2 H2) Line heating Susceptor: 2" x 31" x 2" CT1000 Particole trap Purification: AERONEX CE-2500KF Purifier For NH3 purification Manual by-pass shut off valve (2) Manual isolation valves (2) AERONEX CE-2500KF Purifiers For N2 and H2 (2) Moisture sensors (H2 N2) MICHELL PURA Hygrometer DP Measurement: -120°C 2008 vintage.
AIXTRON Crius 31x2는 연구 및 개발 중심 응용을 위해 설계된 차세대 실리콘 카바이드 에피 택시 원자로입니다. 모듈식 (modular) 및 고도로 구성 가능한 장비로, 저온 에피 택시 (epitaxy) 에서 고온 증가에 이르는 프로세스 유연성을 시간당 최대 500mm2의 속도로 제공합니다. 실리콘, 사파이어, 실리콘 온인슐레이터, 다이아몬드, SiC 등 다양한 기판에서 n- 타입 및 p- 타입 레이어를 모두 확장할 수 있는 기능으로, 차세대 전력 전자 및 광전자 부품 개발을위한 이상적인 고출력 도구입니다. AIXTRON Crius 31x2는 MBE (molecular beam epitaxy) 기술을 사용하며 정확한 가스 전달 속도 및 조성을 허용하는 프로그래밍 가능한 질량 흐름 컨트롤러를 갖추고 있습니다. 이 시스템에는 고출력 필름 성장을 위해 4 개의 전자 빔 건과 11 개의 기판 홀더 위치가 장착되어 있습니다. 또한 빠른 저압 작동을위한 인시 투 (in-situ) 및 엑시 투 (ex-situ) 터보 펌프가있는 통합 진공 펌핑 장치와 정확한 온도 조절을위한 조절 가능한 온도 플랫폼이 포함되어 있습니다. 시스템의 제어 소프트웨어 기능을 사용하면 사용자 친화적 인 레시피 스크립팅과 전체 프로세스 매개변수 최적화 (full process parameter optimization) 를 수행할 수 있습니다. 프로세스 최적화에는 자동 기판 온도 램프, 다른 가스 플럭스 레이트 조합, 성장률 적응이 포함됩니다. 또한 AIXTRON Crius 31x2에는 원격 액세스 모니터링 및 제어를 위한 원격 액세스 옵션이 있습니다. AIXTRON Crius 31x2는 고급 기능과 안정적인 공구 성능을 갖춘 실리콘 카바이드 (silicon carbide) 성장 분야에서 두드러집니다. 원자로 는 모듈 식 "디자인 '을 통해 매우 효율적 이며, 어떤 특정 한 연구 필요 에도 적응 할 수 있다. 이 도구는 반도체 장치 및 부품의 개선 및 테스트에 이상적입니다. AIXTRON Crius 31x2 (AIXTRON Crius 31x2) 는 이미 전력 전자 및 광전자 (optoelectronics) 연구원을위한 강력한 도구로 입증되었으며, 신뢰할 수 있고 다용도 epitaxial reactor를 찾는 연구원들에게 이상적인 선택입니다.
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