판매용 중고 AIXTRON AIX G5+ #293657949

AIXTRON AIX G5 + 는 III-V 화합물 반도체 재료, 나노 입자 및 박막 다층과 같은 장치의 증착을 위해 설계된 고성능 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 견고하고 내구성이 뛰어난 구성 요소로 제작된 이 장비는 안정성이 뛰어나며, 가동 시간 (uptime) 과 공정 (process) 이 뛰어납니다. AIX G5 + 원자로에는 최대 1.1 미터, 최대 0.7 미터 높이의 재료 퇴적을위한 크고 밀폐 된 챔버가 있습니다. 챔버 (chamber) 는 온도 조절 및 산소 제거 환경으로 둘러싸여 있으며, 최적의 프로세스 환경을 보장하기 위해 설정 및 조절 할 수 있습니다. 약실 을 밀봉 하고 압력 을 억제 하여 섬세 한 가공 물질 을 외부 오염 으로 보호 한다. "깨어라!" 챔버 내부는 고온성 (high-temperant) 이며 고성능 가열 요소를 갖추고 있으며, 펄스 (pulsed) 또는 연속 (continuous flow) 와 같은 다양한 프로세스 모드에서 작동 할 수있는 자체 온도 컨트롤러가 장착되어 있으며, 수평 또는 수직 방향입니다. 이 챔버 (Chamber) 는 또한 가공 중인 재료 전체에 균일 한 온도를 전달하여 넓은 지역에 걸쳐 고품질 (High-Quality) 예금을 허용하도록 설계되었습니다. AIXTRON AIX G5 + 원자로는 또한 고급 자동 포지셔닝 시스템을 갖추고 있으며, 이는 재료 증착에 사용되는 부품을 회전시킬 수 있습니다. 이것 은 증착 과정 에 사용 되는 "파라미터 '수 를 증가 시켜, 더 어려운 물질 들 을 증착 할 수 있게 한다. 예 를 들면, 서로 다른" 메탈리제이션' 단계 를 요하는 것 들 이다. AIX G5 + 는 신뢰성이 높으며 가동 시간과 프로세스 생산성이 우수합니다. 고급 소프트웨어와 사용자 인터페이스 (User Interface) 는 효율적이고 최적화된 배치 처리를 보장하며, 애플리케이션별 레시피는 빠르고 정확하게 배포할 수 있습니다. 또한, 이 장치는 쉽고 빠르게 유지 관리할 수 있으며, 지원은 빠르고 로컬로 제공됩니다. 결론적으로, AIXTRON AIX G5 + 는 신뢰할 수 있고 고성능 원자로로, 다양한 III-V 화합물, 박막 다층 및 나노 입자의 증착에 이상적입니다. 고급 머신과 사용자 인터페이스는 유지보수 및 배치 처리 (batch processing) 를 용이하게 하며, 매우 반복 가능하고 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 이 도구는 신뢰성이 높으며, 뛰어난 가동 시간 (uptime) 과 공정 (process) 수율을 제공하도록 설계되어, 도전적인 재료를 증착하는 데 이상적인 도구입니다.