판매용 중고 AIXTRON AIX G5 HT #9283176

AIXTRON AIX G5 HT는 III-V 및 Silicon 기반 제품의 생산을위한 고 처리량 MOCVD 도구입니다. 원자로는 1.3 "~ 8" 직경의 다양한 기판 크기에 대한 모든 포괄적인 MOCVD 공정 챔버를 특징으로합니다. 그것은 III-V 소스 재료 및/또는 실리콘 전구체 소스의 넓은 스펙트럼을 사용하여 많은 독특한 옵토 전자 및 반도체 장치 구조의 성장을 가능하게합니다. AIXTRON AIX G 5 HT에는 Dynamic Pressure Control, 레이저 기반 프로세스 감시 시스템, RF/난방 챔버 프로파일 제어 및 자동 웨이퍼 포지셔닝 및 교환 시스템과 같은 MOCVD 기술의 최신 향상된 AIXTRON이 많이 포함되어 있습니다. 이는 최고 수준의 wafer-to-wafer 균일성, 향상된 제품 수율 및 포괄적인 프로세스 제어를 보장합니다. AIX G5 HT 원자로는 또한 정확성과 생산성을 위해 수직 서셉터 설계를 특징으로합니다. 이 수직 설계는 웨이퍼 평탄성과 온도 균일성을 더 잘 제어 할 수 있습니다. 또한 정확하고 반복 가능한 웨이퍼 위치 제어 및 더 나은 균일성 제어를 지원하는 풀 필드 정렬/스캐닝 시스템을 갖추고 있습니다. AIX G 5 HT 는 처리량을 극대화하고 비용을 절감할 수 있도록 설계되었으며, 다양한 기능을 통합하여 프로세스 효율성을 높였습니다. 사용 가능한 기능 중에는 AIXTRON DPC (Dynamic Pressure Control), 레이저 기반 프로세스 감시 시스템, RF/난방 챔버 프로파일 제어 및 자동 웨이퍼 포지셔닝 및 교환 시스템이 있습니다. AIXTRON AIX G5 HT는 또한 III-V 및 Silicon 기반 제품에 대한 단면 및 양면 MOCVD 프로세스를 포함하여 광범위한 기판을 지원합니다. 이를 통해 제품 설계의 유연성을 높이고 생산량을 높일 수 있습니다. AIXTRON AIX G 5 HT는 오늘날의 최첨단 Opto-Electronic 및 Semiconductor 장치 생산의 모든 품질 관리 및 효율성 요구 사항을 충족하기 위해, 정교한 프로세스 제어 및 모니터링 기능을 제공합니다. 이러한 기능은 표준 (Standard) 프로세스 레시피부터 보다 정교한 (Digital Logic) 기반 프로세스 제어 알고리즘에 이르기까지 다양하며, 복잡한 제품 설계를 위한 최대의 유연성을 위한 맞춤형 (Custom) 프로세스 레시피를 설정할 수 있습니다. 결론적으로, AIX G5 HT는 III-V 및 실리콘 기반 제품의 고 처리량 MOCVD 처리를 위해 특별히 설계된 고급 원자로입니다. MOCVD 기술의 최신 발전을 통합하여 향상된 수율로 반복 가능하고 안정적인 결과를 산출합니다. 수직 감수기 설계, 동적 압력 제어 (Dynamic Pressure Control) 및 기타 여러 기능으로, 오늘날의 최첨단 옵토 전자 및 반도체 장치 생산에 이상적인 도구입니다.