판매용 중고 AIXTRON AIX G5 HT #293690958

제조사
AIXTRON
모델
AIX G5 HT
ID: 293690958
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 2016
System, 6" GaN epitaxy: TMGa, Cp2Mg, TMAl, NH3, Disilane, H2 and N2 2016 vintage.
AIXTRON AIX G5 HT는 반도체와 같은 고급 재료 및 장치의 제조에 사용되는 고성능, 고성능, 고 처리량 금속 유기 화학 증기 증착 (MOCVD) 원자로입니다. 원자로 는 매우 정교 한 공정 을 이용 하여 여러 가지 물질 이 "플라즈마 '및 기질" 챔버' 성분 에 정확 하게 노출 되도록 한다. 중요한 응용 분야 AIXTRON AIX G 5 HT는 비용 효율적인 방식으로 광범위한 자료를 생산할 수 있습니다. 실리콘 (Silicon) 에서 전자 및 광전자 응용 분야의 갈륨 비소 (gallium arsenide) 와 같은 고성능 재료에 이르기까지 다양한 재료 기판에서 높은 선택성으로 업계에서 잘 알려져 있습니다. 게다가, 고도로 반복 가능한 생산 과정 및 공정 제어 (process control) 를 통해 넓은 지역에 걸쳐 증착 된 필름의 차원 및 구조 제어 및 균일성이 향상됩니다. G5 HT Programmable Process Technologies AIX G5 HT는 모든 재료 증착의 성공에 중요한 프로세스 기술 제품군을 제공합니다. "프로그램 '할 수 있는 증착" 소오스' 는 여러 가지 반응 이 있는 종 들 을 사용 할 수 있게 해 주며, "가스 '섭취 장치 는 반응 이 있는 종 들 을 반응" 챔버' 에 공급 하기 위해 운반 기체 를 사용 할 수 있게 해 준다. 또한, 고주파 발전기 (High Frequency Generator) 전원 공급 장치는 완전히 맞춤형 펄스 파형을 생성하여 접착력을 높이고 필름의 균일성을 향상시킬 수 있습니다. 플라즈마 소스 및 기판 가열 (Plasma Sources and Substrate Heating) AIX G 5 HT의 고성능 플라즈마 소스 및 고급 기판 가열 기술을 통해 넓은 영역에서 필름의 화학적, 구조적, 기계적 구성을 더 잘 제어하여 정밀 필름 제작을 할 수 있습니다. G5 HT의 플라즈마 소스 (Plasma Source) 는 빠르고 안정적인 에칭 및 증착 프로세스를 달성하기에 충분히 강력하며, 이는 고급 반도체 장치 생산의 핵심 요소입니다. 안전 및 규정 준수 AIXTRON AIX G5 HT (Safety and Regulatory Compliance AIXTRON AIX G5 HT) 는 운영 담당자에게 안전한 운영 및 최적의 안전을 보장하기 위해 관련 안전 규정을 완벽하게 준수하도록 설계되었습니다. 게다가, 원자로는 과압 및 과압을 받아 유해 물질과 증기의 신속한 대피를 가능하게한다. 마지막으로, AIXTRON AIX G 5 HT는 에너지 효율을 위해 설계되었으며, 긴 프로세스 시간을 보장하기 위해 반 밀봉 모드로 작동 할 수 있습니다.
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