판매용 중고 AIXTRON AIX G5+ C #293751736

제조사
AIXTRON
모델
AIX G5+ C
ID: 293751736
MOCVD System GaN, 6"-8" Fully automated MOCVD Platform Cl2 in-situ cleaning Wafer handler: Cassette-to-cassette.
AIXTRON AIX G5 + C는 고급 반도체 재료의 대용량 생산을 위해 설계된 최첨단 원자로로, 차세대 전자 장치의 개발을 촉진합니다. 첨단 증착 (advanced deposition) 기술과 정확한 제어 시스템을 활용한 이 장비는 다양한 기판의 박막 (thin film) 과 나노 (nanosstructure) 제조에 탁월한 성능과 신뢰성을 제공합니다. AIX G5 + C 원자로의 핵심에는 고급 에피 택시 기술 (epitaxy technology) 이 있으며, 이는 정확한 두께, 구성 및 균일성을 가진 고품질 필름을 증착 할 수 있습니다. 이 원자로는 화합물 반도체, 그래 핀 (graphene) 및 기타 2D 재료를 포함한 광범위한 재료의 생산에 적합하므로 고급 전자 및 광전자 장치 (optoelectronic device) 를 만들 수 있습니다. AIXTRON AIX G5 + C 원자로의 주요 기능 중 하나는 확장성과 유연성으로, 연구 환경과 생산 환경 모두에 적합합니다. 모듈식 설계 (Modular Design) 와 사용자 정의 가능한 프로세스 매개변수를 통해, 사용자는 시스템을 특정 요구 사항과 애플리케이션에 맞게 조정할 수 있습니다. 또한, 원자로에는 고급 웨이퍼 처리 장치 (advanced wafer handling unit) 가 장착되어 있어 뛰어난 필름 품질을 유지하면서 처리량이 높습니다. AIX G5 + C 원자로는 독점적 인 공정 제어 기술을 사용하여 정확하고 반복 가능한 증착 결과를 보장합니다. 이 기술을 사용하면 온도, 압력, 가스 흐름 속도 등 주요 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링, 조정하여 필름 증가와 균일성을 최적화할 수 있습니다. 또한, 원자로에는 실시간 프로세스 모니터링 및 분석을 위해 타원법 (ellipsometry) 및 분광 반사계 (spectroscopic reflectometry) 와 같은 고급 현장 진단 도구가 장착되어 있습니다. 성능 측면에서 AIXTRON AIX G5 + C 원자로는 대용량 기판에서 높은 증착율, 뛰어난 필름 품질 및 뛰어난 균일성을 제공합니다. 첨단 가스 전달 기계 (advanced gas delivery machine) 와 온도 조절 메커니즘은 성장 조건을 정확하게 제어하여 결함 밀도가 낮고 결정 품질이 높은 필름을 생성합니다. 이러한 속성은 LED, 태양 전지, 트랜지스터와 같은 고성능 전자 장치 및 광전자 장치의 제작에 이상적입니다. AIX G5 + C 원자로는 사용자 편의성과 안전성을 염두에 두고 설계되었으며, 사용자 친화적인 인터페이스와 강력한 안전 연결 (Safety Interlock) 기능을 갖추고 있습니다. 이 자산에는 원격 모니터링 및 제어 (Control) 기능도 포함되어 있어 운영 및 유지 보수를 효율적으로 수행할 수 있습니다. 또한 원자로 (reactor) 는 산업 표준 및 규정을 준수하여 제조 공정의 안전성과 신뢰성을 보장합니다. 전반적으로 AIXTRON AIX G5 + C 원자로는 고급 반도체 재료의 증착을위한 최첨단 도구이며, 대용량 생산 어플리케이션을 위한 탁월한 성능, 안정성, 확장성을 제공합니다. 첨단 에피택시 기술 (epitaxy technology), 프로세스 제어 기능, 사용자 친화적 인 설계로 인해 혁신적인 전자 및 광전자 장치 개발을 원하는 연구원 및 제조업체에 이상적인 선택이되었습니다.
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