판매용 중고 AIXTRON AIX 2800 G5 #9358478

AIXTRON AIX 2800 G5는 화합물 반도체의 생산을위한 금속 유기 화학 증기 증착 (MOCVD) 원자로입니다. 원자로는 두께가 단층으로 내려가는 화합물 층의 정밀 증착 (precision deposition) 을 수행하도록 설계되었습니다. 설계에는 5 인치, 고온 및 UHV 기판 홀더뿐만 아니라 고온 및 초고진공 (UHV) 환경이 가능한 자동 반응 챔버가 포함됩니다. 이를 통해 최고 품질 표준을 충족하는 생산이 가능합니다. AIX 2800 G5 는 독자적인 LED 및 디지털 이미징 시스템을 사용하여 필름 증가를 실시간으로 모니터링하는 풀 컬러 시스템입니다. 결과적으로 단기 정확도는 0.005 nm (50 pm), 장기 정확도는 0.01 nm (100 pm) 입니다. 이 설계를 통해 백그라운드 압력을 최대 5x10-7mbar까지 조정하고 8-60mbar에서 프로세스 압력을 설정할 수 있습니다. 또한, 반응 챔버는 공정 적용에 따라 25-900 ° C 사이의 온도를 지원할 수 있습니다. AIXTRON AIX 2800 G5에는 듀얼 셔터 디자인이 포함되어 있으며 각 셔터는 독립적으로 제어됩니다. 이것 은 동일 한 근원 에서 두 가지 물질 을 동일 한 "챔버 '에 증착 시킬 수 있게 한다. 또한, 원자로는 응용 프로그램의 요구에 따라 일괄 처리 (batch processing) 와 연속 처리 (continuous processing) 를 모두 수행 할 수 있습니다. 안전성 측면에서 AIX 2800 G5 는 유해 물질을 보호하기 위해 엔클로저로 구축됩니다. 또한, 반응 챔버 안팎에 환경 센서가 존재한다. 이러한 센서는 프로세스 환경 (process environment) 을 지속적으로 모니터링하고 매개 변수에 변화가 있을 때 경보 연산자를 사용합니다. 이를 통해 안전하고 효율적인 운영을 보장할 수 있습니다. 전반적으로 AIXTRON AIX 2800 G5는 복합 반도체 생산을위한 강력한 도구입니다. MOCVD (metal-organic chemical vapor deposition) 와 이중 셔터 디자인을 결합하여 정밀 증착을 위해 설계되었으며, 하나의 챔버에서 복잡한 작업을 완료 할 수 있습니다. 이 장치는 또한 필름 증가와 환경 센서를 정확하게 모니터링하여 운영자 (operator) 와 장비 (equipment) 의 안전을 보장합니다.