판매용 중고 AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9241907

AIXTRON AIX 2800 G5 HT는 정교한 고 처리량 및 R2R (Roll-to-roll) 생산 규모 반도체 원자로로, 광전자, 광학 및 마이크로 전자 기계 시스템 (MEMS) 을위한 다양한 반도체 재료를 처리하는 데 사용됩니다. 300C에서 1000C 사이의 온도를 지원할 수 있으며, 넓은 기판 영역에 비해 높은 공정 반복 성과 균일성을 제공합니다. 이 원자로에는 유연한 프로세스 요구를 충족시키기 위해 균일성과 선택 가능한 에너지가 높은 이중 소스 LLAG (double source LLAG) 가 장착되어 있습니다. 고온 디자인은 높은 도핑 어닐링 및 적은 입자 준수를 제공합니다. 또한, 개방형 및 동봉 된 영역에서 두꺼운 필름 증착을 지원합니다. 원자로에는 MOCVD (metalorganic chemical-vapor deposition) 및 ALD (atomic layer deposition) 를 포함하는 특수 응용 분야가 있습니다. 또한, 원자로의 모듈 식 설계는 증가 된 처리량 옵션 또는 추가 엔드 스테이션 요구를 크게 촉진합니다. AIXTRON AIX 2800G5 HT는 최대 0.3C의 온도 균일성을 가진 석영 반응 챔버 (quartz reaction chamber) 와 내부 가스 모니터에 공정 가스 전달 시스템을 제공합니다. 이를 통해 원자로는 프로세스 가스를 실시간으로 모니터링하고 정량화 할 수 있습니다. 또한 보다 효율적인 기판 적재 및 처리를 위해 동력 공정 데크 (motorized process deck) 와 기판 탑재 용 자동 정렬 시스템 (automatic alignment system) 이 장착되어 있습니다. AIX 2800 G5 HT 는 고급 제어 및 자동화 기능을 제공하여 프로세스 안정성, 반복성, 생산성을 향상시킵니다. 특히 프로세스 제어 소프트웨어: E-Toolz (Software: The E-Toolz) 와 같은 AIX 2800G5 HT가 눈에 띄는 영역이 있는데, 이를 통해 고객은 외부 서비스 공급업체에 의존하지 않고 자체 시스템에서 패라메트릭 맵을 처리할 수 있습니다. AIXTRON AIX 2800 G5 HT는 광범위한 프로세스 기능을 제공합니다. 액체 소스, 전자 빔 (e-beam) 및 이온 빔 (ion beam) 소스를위한 열 방출기, 표면 제어 박막 프로세스와 같은 여러 프로세스 영역의 리더입니다. 원자로에는 균일 한 가스/증기 전달, 고 진공 기능 및 고성능 증착 제어 시스템을위한 가스 분배 제어 (gas distribution control) 가 장착되어 있습니다. 결론적으로, AIXTRON AIX 2800G5 HT는 다양한 온도 범위 및 프로세스 요구를 지원할 수있는 높은 처리량 및 R2R 생산 원자로입니다. 모듈식 설계와 고급 프로세스 제어/자동화 기능을 통해 안정성, 반복성, 생산성 향상을 위한 훌륭한 기회를 제공합니다 (영문). 또한 사용자 지정 및 임시 프로세스 레시피용 E-Toolz (E-Toolz for custom) 및 임시 프로세스 레시피 (Ad Hoc Process Recipe) 와 같은 기능을 통해 프로세싱을 보다 효과적으로 제어할 수 있습니다.