판매용 중고 AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9222508
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판매
ID: 9222508
빈티지: 2011
MOCVD System
GaN
Chember: 56x2"/ 8x6"
Temperature monitor: Photrix / EPI TT
Hydride lines: NH3-1 / NH3-2 / SiH4
MO Source:
TMGa-1, TMGa-2, TMAI-1, Cp2Mg-l, Cp2Mg- 2, TMIn-1, TMIn-2, TEG-1, TEG-2
Main body
RF Generator: 1210mm(L) x 800mm(W) x 2300mm(H)
Main pump: EBARA ESA80W-HDF
Pump: (2) Scroll pumps
Monitor: Photrix LWL Luxtron
Monitor: EpiTT x GS x 405nm
Wiring: 4 Wire + Ground
Power: 400/230VAC, 3-Ph
2011 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT는 고 처리량, 대용량 금속성 증기 상 에피 택시 (MOVPE) 원자로입니다. 그것은 갈륨 비소 및 인듐 갈륨 비소와 같은 III-V 화합물 반도체 재료의 성장 및 핵화를 위해 설계되었으며, 이는 LED 및 태양 전지와 같은 광전자 장치의 구성 요소 생산에 사용된다. AIXTRON AIX 2800G5 HT (AIX 2800G5 HT) 는 고급 원자로 설계, 풍부한 기능의 하드웨어, 네이티브 제어 소프트웨어를 결합한 통합 장비로, 유지 관리 비용을 절감하면서 뛰어난 성능을 제공합니다. 환형 원자로 챔버 (Anular Reactor Chamber) 는 넓은 면적의 웨이퍼에 균일 한 층 품질로 균일 한 재료 성장을 촉진합니다. 5 개의 개별 전구체 및 도펀트 소스를 독립적으로 제어하여 성장 매개변수를 최적화 할 수 있으며, 내장 히터, 가스 공급 시스템 및 압력 조절기는 유속 (flow rate) 의 정확한 조정을 허용합니다. 이 시스템에는 전원 공급 장치, 배기 송풍기 및 냉각 장치도 포함됩니다. AIX 2800 G5 HT는 회전 챔버 내부에 균일 한 온도 분배를 설정하도록 설계된 고급 난방기 (Advanced Heating Machine) 를 제공합니다. 그것 은 "램프 '속도 를 조정 할 수 있는 매우 정확 한 온도 조절 을 해 주며, 거대 한" 웨이퍼' 까지도 완전 히 균질 한 온도 를 갖도록 한다. 공정 제어는 2 나노 미터 미만의 좁은 레이어 공차를 갖는 복잡한 다중 이종 분해 에피 택시 구조를 위해 고품질 에피 택시 레이어를 보장합니다. 또한 AIX 2800G5 HT 는 다양한 추가 기능을 제공하여 툴의 성능을 향상시킵니다. 정밀 정렬 에셋은 정각으로 쿼츠 (quartz) 또는 흑연 서셉터 (graphite susceptor) 에 웨이퍼 마운팅을 용이하게하여 최상위 레이어 균일성을 산출합니다. 이 모델에는 고급 교정 소프트웨어 (Advanced calibration software) 가 있어 샘플 플레이트의 정확하고 반복 가능한 위치를 지정할 수 있습니다. 장비 안에서 깨끗함을 유지하기 위해, 고효율 여과 시스템은 전구체와 도펀트가 원자로에 도입되기 전에 깨끗하게 (clean) 보장한다. 또한, 가스 동적 셔터는 유출 된 전구체 가스 또는 부산물에서 오염을 줄이는 데 도움이됩니다. 전반적으로 AIXTRON AIX 2800 G5 HT는 고급 고속 MOVPE 원자로로, 대용량 III-V 복합 반도체 부품 생산에 이상적입니다. 탁월한 균일성, 안정성, 반복성을 갖춘 탁월한 프로세스 및 레이어 제어 기능 (직관적이고 통합된 장치) 을 제공합니다.
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