판매용 중고 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9262094

AIXTRON AIX 2800 G4 HT는 반도체 산업의 연구 및 개발 애플리케이션을 위해 설계된 고도의 증착 원자로입니다. 이 제품은 필름 증가에 대한 제어가 향상되고 프로세스 반복성이 향상되어 프로세스 처리량 (process throughput) 이 향상되고 디바이스 생산량이 향상되는 독보적인 설계를 제공합니다. AIXTRON AIX 2800G4-HT는 원자로 성능을 최적화하기 위해 설계 원리의 조합을 사용합니다. 강력한 소스 활용 인자 (source-utilization factor) 가 특징이며, 높은 소스 강도를 제공하고 종의 효율적인 재조합을 장려하며, 가스 흐름 및 균일 한 증착을위한 로우 프로파일 챔버 (low-profile chamber) 를 장려합니다. 원자로는 또한 고도 반복 가능성과 신뢰할 수있는 웨이퍼-투-웨이퍼 오버레이를위한 속도 제어 웨이퍼 단계를 특징으로합니다. AIX 2800G4 HT에는 다중 소스 반응성 이온 증착, 기판 독립적 증착, 오프 축 코팅, 이중 표적 열 전장 증발을 포함한 최신 증착 기술이 장착되어 있습니다. 이러한 기술을 통해 3D 집적 회로, 초대형 통합, 복합 반도체, 광학 코팅, 구리 금속화 등의 분야에서 연구 개발을 할 수 있습니다. AIX 2800 G 4 HT 는 고급 프로세스 제어 (process control) 기능을 제공하여 성장 중 증착 매개변수를 신속하게 검사하고 조정할 수 있습니다. 이 컨트롤은 로깅 (Logging) 과 튜닝 (Tuning) 알고리즘의 정교한 조합을 통해 이루어지며, 이는 Nucleate 및 레이어 설정이 특정 프로세스에 맞게 최적화되도록 보장합니다. AIX 2800G4-HT 는 더 빠른 프로세스뿐만 아니라, 안전성을 위해 완전히 밀폐된 환경을 위한 최대의 기판 동작 (Substrate Motion) 을 제공합니다. 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 프로세스 설정 (process setup) 및 모니터링이 용이하며, 이 시스템은 모든 주요 반도체 fab 관리 소프트웨어와 호환됩니다. 전반적으로, AIX 2800 G4 HT는 강력하고 다양한 증착 도구이며, 사용자가 필름 증가와 프로세스 반복성을 정확하게 제어할 수 있습니다. 따라서, 최신 반도체 기술을 실험하는 데 이상적입니다.