판매용 중고 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9123393

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제조사
AIXTRON
모델
AIX 2800 G4 HT
ID: 9123393
빈티지: 2010
MOVPE System GaN System Configured for LED substrate Aixact software version: 6.1.6.8 (12) MO's (7) Actives (TMGa, TMAl, TMIn, TEOS, CBr4, Cp2Mg, TEGa incl. MFC/PC etc.) Dopant lines: Double dilution Pumps: Process pump: EBARA A70W Glovebox pump: VARIAN Tiscroll 300 Door-pump: VARIAN Triscroll 300 Insitu monitoring: Photrix H2 Purifier: ENTEGRIS 2,8l N2 Purifier: ENTEGRIS 2,8l NH3 Purifier: ENTEGRIS 2,8l MFC: BRONKHORST 2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT는 GaAs, InP 및 GaN과 같은 화합물 반도체의 증착 및 처리를 위해 설계된 최첨단 생산 원자로입니다. 이 장비는 이러한 재료를 높은 성장률과 우수한 레이어 균일성으로 증착 할 수 있습니다. 이 시스템의 원자로 구성은 단일 배치에서 최대 800mm 웨이퍼 (wafer) 의 대규모 실행을 수행하도록 특별히 설계되었습니다. AIXTRON AIX 2800G4-HT는 수평 석영 가스 분포 플레이트를 사용하며, 이는 균일성 향상을 위해 전체 기질에 반응 가스를 균등하게 분배합니다. 유연성이 뛰어난 로드 잠금 장치 (Load Lock Unit) 는 탁월한 편리성을 제공하며, 진공을 끊지 않고도 하중과 처리 챔버 간의 운송을 허용합니다. AIX 2800G4 HT는 최적화 된 증착 성능 및 레이어 품질을 위해 8 단계 제어 가능한 온도 분포가있는 가열 된 쇼 헤드 (showerhead) 를 갖추고 있습니다. 균일성 향상을 위해, 원자로에는 층의 균일성과 최적의 침대 균일성을 제공하기 위해 빠르게 움직이는 서셉터 (susceptor) 가 장착되어 있습니다. 다른 특징 들 로는 압력통제기 (Pressure Control Machine) 가 있는데, 이 기계 를 사용 하여 여러 가지 기판 과 공정 조건 에 대한 정밀 한 "가스 '조절 을 할 수 있다. 하중 잠금에는 반응 챔버에 들어가기 전에 높은 청결 수준을 보장하기 위해 UV 퍼지 램프 (purge lamp) 가 장착되어 있습니다. 또한 AIX 2800G4-HT는 지능형 레시피 소프트웨어를 통합하여 자동 프로세스 최적화 기능을 통해 도구 성능을 최적화합니다. 또한, AIXTRON AIX 2800G4 HT는 안전한 작동을 위해 설계되었으며, 안전 인장 챔버 (Safety Seal Chamber) 를 특징으로하여 반응 가스가 작업 환경으로 탈출하는 것을 방지합니다. 이 자산은 또한 폐쇄 루프 (closed-loop) 재순환 모델을 사용하여 고독성 반응 가스의 사용을 줄입니다. 모든 안전 표준 (Safety Standard) 을 충족하거나 초과하여 사용자가 장비를 운영하는 동안 안심할 수 있도록 합니다. 요약하자면, AIX 2800 G4 HT는 화합물 반도체의 증착 및 처리를 위해 설계된 강력하고 정밀한 생산 원자로입니다. 보다 우수한 레이어 품질과 깨끗함을 위해 빠르고 균일 한 증착, 통합 압력 제어 및 UV 퍼지 램프를 제공합니다. AIXTRON AIX 2800 G 4 HT는 최적화된 설계 및 통합 안전 기능으로, 반도체 업계의 사용자에게 귀중한 도구입니다.
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